受主杂质检测概述:检测项目1.受主杂质浓度范围:1E14~1E20atoms/cm定量分析2.掺杂层深度分布:分辨率≤5nm3.激活能测定:精度0.01eV4.载流子浓度比:p/n型比例误差<5%5.电学性能影响:迁移率偏差≤10%检测范围1.半导体单晶硅(掺杂硼/铝/镓)2.III-V族化合物半导体(GaAs,InP等)3.光伏材料(CIGS薄膜电池)4.金属合金掺杂体系(铝合金镁元素)5.功能陶瓷材料(BaTiO3基PTCR元件)检测方法1.ASTMF76-08(2020)霍尔效应测试标准2.ISO17560:2014
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。
1.受主杂质浓度范围:1E14~1E20atoms/cm定量分析
2.掺杂层深度分布:分辨率≤5nm
3.激活能测定:精度0.01eV
4.载流子浓度比:p/n型比例误差<5%
5.电学性能影响:迁移率偏差≤10%
1.半导体单晶硅(掺杂硼/铝/镓)
2.III-V族化合物半导体(GaAs,InP等)
3.光伏材料(CIGS薄膜电池)
4.金属合金掺杂体系(铝合金镁元素)
5.功能陶瓷材料(BaTiO3基PTCR元件)
1.ASTMF76-08(2020)霍尔效应测试标准
2.ISO17560:2014SIMS深度剖析方法
3.GB/T1550-2018半导体材料导电类型判定
4.GB/T14144-2021硅单晶中杂质补偿度测定
5.ASTME1508-12(2019)二次离子质谱定量规程
6.DLTS深能级瞬态谱技术(IEC60749-32:2022)
7.GB/T16597-2019X射线荧光光谱通则
1.KEITHLEY2450四探针电阻率测试仪:10μΩm~100MΩm量程
2.LakeShore8404霍尔效应测量系统:0.05T~2T磁场强度
3.CamecaIMS7f二次离子质谱仪:质量分辨率>10,000
4.ThermoScientificARLQUANT'XEDXRF光谱仪:Be窗探测器
5.Bio-RadDL8000深能级瞬态谱仪:温度范围15K~500K
6.Agilent5500原子力显微镜:导电AFM模式
7.BrukerD8ADVANCEX射线衍射仪:Cu靶Kα辐射源
8.OxfordInstrumentsPlasmaPro100ICP-MS:检出限<ppt级
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与受主杂质检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。