高密度存储器检测概述:检测项目1.存储单元漏电流:测量范围1nA-10μA@25℃,精度0.5%2.数据保持时间:高温加速测试(85℃/1000h),误码率≤1E-63.编程/擦除耐久性:循环次数≥1E5次,阈值电压偏移量≤50mV4.界面态密度:C-V法测量精度5E9cm⁻eV⁻5.热载流子注入效应:应力条件Vd=3.3V@125℃,退化率监测6.串扰噪声:相邻单元干扰量≤5%,测试频率100MHz检测范围1.3DNAND闪存芯片(64层/128层/232层堆叠结构)2.DRAM模块(DDR4/DDR5/LPDDR5规格)3
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1.存储单元漏电流:测量范围1nA-10μA@25℃,精度0.5%
2.数据保持时间:高温加速测试(85℃/1000h),误码率≤1E-6
3.编程/擦除耐久性:循环次数≥1E5次,阈值电压偏移量≤50mV
4.界面态密度:C-V法测量精度5E9cm⁻eV⁻
5.热载流子注入效应:应力条件Vd=3.3V@125℃,退化率监测
6.串扰噪声:相邻单元干扰量≤5%,测试频率100MHz
1.3DNAND闪存芯片(64层/128层/232层堆叠结构)
2.DRAM模块(DDR4/DDR5/LPDDR5规格)
3.相变存储器(PCRAM)单元阵列
4.磁性存储器(MRAM)隧道结器件
5.阻变存储器(ReRAM)交叉点阵列
6.嵌入式NORFlash存储单元
国际标准:ASTMF1249(介电强度)、JESD22-A117(数据保持)、JESD22-A105B(耐久性)、ISO16750-4(振动)、IEC60068-2-14(温度循环)
国家标准:GB/T15844.3(环境试验)、GB/T17574(半导体参数)、GB/T4937(机械应力)、GB/T2423.10(冲击)、GB/T18310.19(ESD敏感度)
1.KeysightB1500A半导体分析仪:支持fA级电流测量与脉冲IV特性分析
2.ThermoScientificMK53环境试验箱:温度范围-70℃~180℃,湿度控制1%RH
3.AdvantestT2000存储测试系统:并行测试256通道@800Mbps速率
4.FEIHeliosG4UX聚焦离子束系统:5nm分辨率断面分析
5.BrukerDimensionIcon原子力显微镜:导电AFM模式表面电势成像
6.TektronixDPO73304S示波器:33GHz带宽波形捕获
7.ESPECT3-4080温冲箱:转换速率≥15℃/min
8.HamamatsuPHEMOS-1000光发射显微镜:单光子探测灵敏度
9.CascadeSummit12000探针台:12英寸晶圆级测试能力
10.Agilent4294A阻抗分析仪:40Hz-110MHz频段介电特性测量
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与高密度存储器检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。