电解铜粉检测

电解铜粉检测是确保其在电子、冶金等领域应用性能的关键环节。专业检测涵盖化学成分、物理特性及微观结构等核心指标,需依据ASTM、ISO、GB等标准,通过精密仪器完成。本文系统阐述检测项目、适用范围、方法标准及设备配置,为质量控制提供技术参考。

原创阅读 192025-03-05工程师CMACNASISO高新技术企业

检测项目

化学成分分析:Cu≥99.95%,杂质元素(Fe≤0.003%、Pb≤0.002%、O≤0.15%)

粒度分布:D10≤15μm、D50=25-45μm、D90≥60μm(激光衍射法)

松装密度:1.5-2.5g/cm³(霍尔流速计法)

流动性:≤35s/50g(标准漏斗法)

比表面积:0.3-1.5m²/g(BET氮吸附法)

微观形貌:颗粒球形度≥85%(SEM成像分析)

检测范围

粉末冶金用电解铜粉(压制烧结件原料)

电子封装材料(导电胶、焊膏基材)

导电涂料用超细铜粉(粒径≤10μm)

3D打印金属粉末(SLS/SLM工艺专用)

催化剂载体铜粉(比表面积≥1.0m²/g)

检测方法

化学成分:GB/T 5121.1-2020(铜及铜合金化学分析方法)

粒度分析:ISO 13320-2020(激光衍射通用要求)、GB/T 19077-2016

松装密度:ASTM B212-17(金属粉末流动性标准测试)

比表面积:GB/T 19587-2017(气体吸附BET法)

氧含量测定:ISO 4491-4-2019(氢还原-热导法)

电导率测试:GB/T 351-2019(金属材料电阻系数测量)

检测设备

ICP-OES光谱仪(Thermo Scientific iCAP PRO X系列,检出限0.1ppm)

激光粒度分析仪(Malvern Mastersizer 3000,量程0.01-3500μm)

全自动比表面分析仪(Micromeritics TriStar II Plus,精度±1%)

扫描电子显微镜(Hitachi SU5000,分辨率1.0nm@15kV)

霍尔流速计(CSC Digital Hall Flowmeter,计时精度±0.01s)

四探针电阻仪(Lucas Labs Pro4-4400,量程0.1μΩ·m-100MΩ·m)

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

  • 报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
  • 检测周期:7~15工作日,可加急。
  • 资质:旗下实验室拥有CMA/CNAS/ISO资质。
  • 标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
  • 非标测试:支持定制化试验方案。
  • 售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

QUALIFICATIONS

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