检测项目

1.薄膜厚度测量：分辨率0.1nm（1-1000nm范围）

2.复折射率测定：n值精度0.005，k值精度0.001

3.表面粗糙度分析：RMS粗糙度0.1-10nm

4.多层膜结构解析：最多支持8层异质结构建模

5.各向异性表征：双折射率差Δn≥0.001

检测范围

1.半导体材料：硅基氧化物/氮化物薄膜（SiO₂/Si₃N₄）

2.光学镀膜：增透膜/反射膜（MgF₂/Al₂O₃）

3.聚合物薄膜：PMMA/PDMS超薄涂层（10-500nm）

4.金属氧化物：ITO透明导电膜（50-300nm）

5.生物医学涂层：羟基磷灰石/聚乳酸复合膜（20-200μm）

检测方法

ASTME1779-17：透明基底薄膜光学常数标准测试方法

ISO14707:2015：辉光放电光谱与椭圆偏振联用技术规范

GB/T26313-2010：金属氧化物薄膜厚度测量方法

GB/T39489-2020：液晶显示面板光学膜层测试规程

JISK5600-7-8：涂料膜厚无损测定椭圆偏振法

检测设备

1.J.A.WoollamM-2000UI：宽光谱椭偏仪（245-1700nm），配备自动变角系统（45-90）

2.HoribaUVISEL2：深紫外椭偏仪（190-2100nm），集成显微成像模块

3.SentechSE850adv：红外椭偏仪（2-25μm），支持高温样品台（RT-600℃）

4.AccurionEP4：成像椭偏仪（400-1000nm），空间分辨率1μm

5.SemilabGES5E：在线式椭偏仪（380-900nm），集成机械手接口

6.AngstromSunTechnologiesEPV-100：真空紫外椭偏仪（120-300nm）

7.FilmSenseFS-1：便携式椭偏仪（405-980nm），现场快速测量系统

8.NanofilmEP3sw：全自动湿法椭偏仪，支持液体环境实时监测