可送检的样品类型与对应检测项目
| 样品类型 | 典型应用场景 | 主要检测项目 | 常用方法 / 参考 |
|---|---|---|---|
| 高纯铝及铝合金溅射靶材（Φ300mm级平面靶） | 12英寸晶圆厂互连金属化、铝电极与栅极薄膜沉积 | 化学纯度、气体杂质、致密度、晶粒度与织构、平面度、表面粗糙度、尺寸公差 | GB/T 29658-2013；辉光放电质谱痕量分析；电子背散射衍射取向成像；阿基米德法密度 |
| 集成电路用高纯铜及铜合金靶材 | 铜互连种子层、阻挡层衬层镀膜 | 纯度（4N5~6N）、杂质元素含量、晶粒取向、结合强度 | GB/T 39159-2020；GB/T 39163-2020结合强度测试 |
| 钛、钽、钨及钨钛难熔金属靶材 | 扩散阻挡层、粘附层、金属栅极镀膜 | 气体杂质（氧氮氢）、致密度、晶粒结构、靶面质量 | 惰性气体熔融法氧氮氢分析；GB/T 3850-2015密度测定 |
| 金及金合金靶材 | 功率器件封装电极、LED芯片电极膜 | 纯度、成分配比、晶粒度、结合率 | GB/T 23611-2023；辉光放电质谱法 |
| 钌等贵金属靶材 | 磁阻传感器、阻变存储器电极镀膜 | 纯度、相结构、靶面表面质量 | GB/T 34649-2017 |
| 氧化铟锡（ITO）陶瓷靶材 | 显示面板透明导电膜、触控组件镀膜 | 铟锡配比、相对密度、体积电阻率、氧含量 | GB/T 20510-2024；GB/T 38389-2019化学分析 |
| 碲锌镉等化合物靶材 | 薄膜太阳能电池吸收层沉积 | 成分均匀性、纯度、致密度 | GB/T 39160-2020 |
检测项目
1. 化学纯度：高纯金属靶4N5~6N（99.995%~99.9999%），单元素杂质0.01~10ppm级定量，全杂质加和法核算总纯度
2. 气体杂质：铝铜靶氧含量≤5~10ppm，钛钽等难熔金属靶氧≤100~500ppm、氮≤50ppm、氢≤5~10ppm
3. 致密度：不低于99.5%理论密度，高纯铝靶实测密度≥2.68g/cm³（理论值2.699g/cm³）
4. 晶粒度与织构：平均晶粒尺寸100~500μm，<110>/<111>择优取向强度以极图表征
5. 几何精度：直径Φ300±0.5mm、厚度公差±0.1~0.5mm、平面度≤0.1~0.5mm、靶面粗糙度Ra≤0.5~1.0μm
6. 结合强度：靶坯与背板钎焊结合率≥98%~99.5%，焊层剪切强度30~100MPa（随钎料体系不同）
检测范围
1. 高纯铝靶：4N5~6N纯铝靶、铝铜（Al-0.5Cu）、铝硅（Al-1Si）等合金靶
2. 铜及铜合金靶：高纯铜靶、铜铝合金靶、铜镁合金靶
3. 难熔金属靶：钛靶、钽靶、钨靶、钨钛（WTi）合金靶
4. 贵金属靶：金靶、金合金靶、钌靶、铂靶
5. 陶瓷及化合物靶：氧化铟锡（ITO）、氧化锌铝（AZO）、铟锌氧化物（IZO）、碲锌镉靶
检测方法
1. GB/T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材（成分、尺寸、组织与性能综合要求）
2. GB/T 39159-2020 集成电路用高纯铜合金靶材
3. GB/T 39163-2020 靶材与背板结合强度测试方法
4. GB/Z 122-2025 表面化学分析 辉光放电质谱 操作程序（痕量杂质元素测定）
5. GB/T 24630.2-2024 产品几何技术规范（GPS） 平面度 第2部分：规范操作集
6. GB/T 6394-2017 金属平均晶粒度测定方法
7. GB/T 20510-2024 氧化铟锡靶材
检测设备
1. 辉光放电质谱仪（GD-MS）：痕量元素检出限0.001~10ppb，一次分析可覆盖75种元素
2. 电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）：溶液法检出限达ppt级，配合微波消解前处理
3. 氧氮氢联测分析仪：惰性气体熔融法，氧检出限0.01ppm，测量范围0.1~500ppm
4. 水浸超声C扫描系统：探头频率5~100MHz，缺陷定位精度0.1mm，结合率面积成像
5. 电子背散射衍射系统（EBSD）：取向分辨率≤0.5°，扫描步长0.05~5μm，晶粒与织构统计
6. X射线衍射仪（XRD）：测角范围2θ 0.5°~160°，配织构极图附件
7. 三坐标测量机（CMM）：长度测量示值误差≤(0.5+L/1000)μm，Φ300mm靶面平面度评定
8. 触针式轮廓仪：粗糙度测量Ra 0.005~16μm，评定行程≥60mm
9. 电子万能试验机：载荷0.02~600kN，配剪切与拉脱夹具测定结合强度
10. 精密电子天平（配密度测定组件）：读数精度0.1mg，阿基米德法致密度测定