光干涉法检测

检测项目

表面粗糙度检测：Ra 0.1nm-10μm，Sa 0.05-5μm

薄膜厚度测量：10nm-200μm（误差±0.5%）

三维形貌分析：Z轴分辨率0.1nm，XY分辨率1μm

平面度检测：λ/20精度（@632.8nm）

折射率测定：n值范围1.3-3.5（精度±0.0002）

检测范围

光学元件：透镜、棱镜、滤光片镀膜层

半导体材料：硅片、GaAs晶圆、光刻胶涂层

金属加工件：精密轴承、涡轮叶片表面

高分子薄膜：PET保护膜、OLED封装层

精密机械部件：MEMS器件、微流控芯片

检测方法

ISO 25178-6: 表面形貌干涉测量规范

ASTM E284-22: 光学表面特性术语标准

GB/T 1800.4-2020: 产品几何技术规范

ISO 10110-5: 光学元件表面缺陷检测

GB/T 29531-2013: 精密加工表面粗糙度测量

检测设备

Zygo NewView 9000：相移干涉仪，垂直分辨率0.1nm

Bruker ContourGT-X3：白光干涉仪，扫描速度25μm/s

Veeco NT9800：动态干涉系统，孔径Φ300mm

Filmetrics F20：薄膜厚度测量仪，波长范围400-1000nm

Mitutoyo SURFTEST SJ-410：接触式干涉仪，最大行程25mm

北检(北京)检测技术研究院【简称：北检院】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

以上是与"光干涉法检测"相关的简单介绍，具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检检测技术研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。