光刻工艺用特气纯度测定

检测项目

1.总杂质含量测定：杂质总量≤0.1ppm，包括所有非主体气体成分

2.水分含量检测：水分子浓度≤0.5ppm，露点温度对应-76°C以下

3.氧气杂质测定：氧气含量≤0.1ppm，防止氧化反应影响光刻过程

4.氮气杂质分析：氮气含量≤0.1ppm，避免氮化物生成

5.碳氢化合物检测：总碳氢化合物≤0.1ppm，防止有机污染

6.颗粒物计数：颗粒尺寸≥0.1μm，计数≤0.1particles/cm³，确保无固体杂质

7.金属离子含量测定：金属杂质如铁、钠≤0.01ppb，防止金属污染

8.卤素含量检测：氟、氯等卤素元素≤0.1ppm，避免蚀刻异常

9.二氧化碳含量分析：CO₂浓度≤0.1ppm，维持气体惰性

10.氩气纯度验证：氩气纯度≥99.9999%，主体气体比例确认

11.氢气纯度测定：氢气纯度≥99.999%，用于还原气氛控制

12.氦气纯度检测：氦气纯度≥99.999%，作为载气性能评估

13.一氧化碳杂质分析：CO含量≤0.1ppm，防止碳沉积

14.硫化物含量检测：硫元素≤0.05ppm，避免硫污染

15.氨气杂质测定：NH₃浓度≤0.1ppm，防止碱性影响

检测范围

1.高纯氩气：用于光刻清洗步骤，纯度≥99.9999%，杂质控制严格

2.高纯氮气：用于purge和保护气氛，纯度≥99.999%，侧重氧气和水分检测

3.高纯氢气：用于还原反应，纯度≥99.999%，关注碳氢化合物和金属杂质

4.高纯氧气：用于氧化工艺，纯度≥99.999%，检测氮气和碳氧化物

5.高纯氦气：作为载气或冷却气，纯度≥99.999%，强调颗粒物和水分控制

6.混合特种气体：如Ar/O₂或N₂/H₂混合，比例精度±0.1%，检测各组分纯度和一致性

7.蚀刻用气体：如四氟化碳(CF₄)，纯度≥99.99%，重点检测卤素和金属杂质

8.化学气相沉积气体：如硅烷(SiH₄)，纯度≥99.999%，关注氧气、水分和颗粒物

9.掺杂气体：如乙硼烷(B₂H₆)，用于离子注入，纯度≥99.99%，检测碳氢化合物和金属离子

10.清洗气体：如三氟化氮(NF₃)，用于chamber清洗，纯度≥99.99%，侧重氟杂质和颗粒物

11.惰性保护气体：如氖气或氪气，纯度≥99.999%，检测总杂质和水分

12.反应气体：用于等离子体增强化学气相沉积，如氨气(NH₃)，纯度≥99.999%，关注硫化物和二氧化碳

13.特种高纯气体混合物：定制比例气体，用于特定光刻步骤，检测所有组分和杂质限值

14.超纯气体：纯度≥99.9999%，用于先进节点制程，全面检测痕量杂质

15.气体钢瓶内衬材料：如不锈钢或铝合金内壁，评估气体相容性和杂质释放

检测方法

国际标准：

ASTMD1945-14气相色谱法测定气体成分

ISO6974-1:2012天然气和类似气体成分分析色谱法

ASTMD5466-21压缩气体中水分含量测定电解法

ISO8573-1:2019压缩空气纯度分级和检测

ASTMF312-08气体中颗粒物计数和尺寸分布光散射法

ISO10715:2023天然气中硫化合物测定

ASTMD7649-19气体中金属杂质测定电感耦合等离子体质谱法

ISO19230:2020气体中二氧化碳含量测定红外光谱法

ASTMD7892-22气体中卤素含量测定微库仑法

ISO14167:2023气体纯度评估通用指南

国家标准：

GB/T14605-2020高纯气体中杂质含量的测定气相色谱法

GB/T3634-2020氢气纯度及杂质含量测定

GB/T8979-2020纯氮、高纯氮和超纯氮

GB/T4842-2020纯氩、高纯氩和超纯氩

GB/T14599-2020纯氧、高纯氧和超纯氧

GB/T23938-2020高纯氢中杂质含量的测定

GB/T38521-2020气体中颗粒物计数方法

GB/T38522-2020气体中水分含量测定方法

GB/T38523-2020气体中金属杂质测定方法

GB/T38524-2020气体中卤素化合物测定方法

检测设备

1.气相色谱仪：型号GC-2020Pro，用于气体成分分离和定量，检测限0.01ppm

2.质谱仪：型号MS-5000Ultra，痕量杂质分析，质量范围1-1000amu，灵敏度0.1ppb

3.水分分析仪：型号MA-100MKII，电解法测水分，范围0.1-1000ppm，精度±0.1ppm

4.颗粒计数器：型号PC-200Advanced，光散射原理，计数颗粒尺寸≥0.1μm，流量0.1-100L/min

5.金属离子分析仪：型号MIA-300Plus，电感耦合等离子体质谱法，检测金属杂质下限0.01ppb

6.卤素分析仪：型号HA-400Pro，微库仑法测卤素含量，检测限0.05ppm

7.二氧化碳分析仪：型号CO2-150IR，非分散红外光谱法，范围0.1-1000ppm，精度±0.5%

8.纯度分析系统：型号PAS-600Integrated，综合气相色谱和质谱，自动检测多种杂质

9.露点仪：型号DP-300Hybrid，电容法测露点，范围-80°Cto+20°C，精度±0.1°C

10.气体采样装置：型号GS-1000Modular，用于高压气体采样和预处理，避免污染，压力范围0-10MPa

北检(北京)检测技术研究院【简称：北检院】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

以上是与"光刻工艺用特气纯度测定"相关的简单介绍，具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检检测技术研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。