检测项目

1. 粒度分布参数：平均粒径D50(0.01-100μm)、特征粒径D10/D90、粒径分布宽度Span值(≤1.5)。

2. 颗粒计数：单位体积颗粒数(10⁴-10⁸个/mL)、大颗粒含量(>10μm颗粒≤100个/mL)。

3. 粉体特性：比表面积(0.1-100m²/g)、颗粒形态球形度(≥0.9)、团聚指数。

4. 浓度测定：固含量(1%-80%)、分散稳定性、沉降速率。

5. 粒径均匀性：分布曲线特征、多分散性指数PDI(≤0.2)。

检测范围

1. CMP抛光材料：硅溶胶抛光液(粒径20-100nm)、氧化铈抛光粉、氧化铝磨料。

2. 导电浆料：银粉浆料(粒径0.5-5μm)、铜粉浆料、导电碳浆。

3. 光刻材料：光刻胶添加剂、抗反射涂层颗粒、显影液颗粒。

4. 封装材料：环氧模塑料填料(粒径1-50μm)、硅微粉、球形硅粉。

5. 其他粉体：焊粉(粒径20-45μm)、陶瓷填料、导热填料。

检测方法

1. GB/T 19077-2016 粒度分析 激光衍射法。

2. GB/T 19627-2005 粒度分析 光子相关光谱法。

3. ISO 13320:2009 粒度分析 激光衍射法。

4. SEMI M52-0309 用动态光散射法测量纳米颗粒尺寸分布。

5. GB/T 29022-2012 粒度分析 动态图像分析法。

检测设备

1. 激光衍射粒度仪(Malvern Mastersizer 3000)：测量范围0.01-3500μm，精度±1%。

2. 动态光散射粒度仪(Malvern Zetasizer Nano ZS)：测量范围0.3nm-10μm，温度范围0-90℃。

3. 纳米粒度分析仪(Beckman Delsa Nano C)：粒径范围0.5nm-50μm，Zeta电位测量。

4. 库尔特计数器(Beckman Multisizer 4e)：粒径范围0.4-1600μm，计数精度±3%。

5. 图像分析仪(Microtrac S3500)：测量范围0.5-2000μm，相机分辨率5MP。

6. 超声波分散器(Branson 5800)：频率40kHz，功率500W。

7. 离心沉降粒度仪(CPS Instruments DC24000)：粒径范围0.01-40μm，转速24000rpm。

8. 比表面积分析仪(Micromeritics TriStar II 3020)：测量范围≥0.01m²/g。