研磨盘粒度分布均匀度测试

检测项目

粒度分布检测：

• 平均粒径：D50值（μm，参照ISO13320）
• 粒度分布宽度：Span值（(D90-D10)/D50）

• 变异系数：CV%计算
• 粒度对称性：D10/D90比值

• 硬度：维氏硬度值（HV）
• 密度：体积密度（g/cm³）

• 氧化铝含量：主成分偏差（±0.5wt%）
• 杂质元素：硅含量检测限（≤10ppm）

• 表面粗糙度：Ra值（μm）
• 平整度：偏差值（μm/m）

• 抗拉强度：≥50MPa
• 剪切强度：≥30MPa

• 磨损率：mg/1000转
• 耐磨寿命：小时数（参照ASTMG65）

• 热膨胀系数：10^{-6}/K
• 热导率：W/mK

• 晶粒尺寸：平均粒径（μm）
• 孔隙率：百分比（%）

• 夹杂物评级：尺寸与分布
• 裂纹检测：长度与深度（μm）

检测范围

1.金刚石研磨盘：用于超硬材料加工，重点检测粒度均匀度和粘结强度

2.氧化铝研磨盘：常见于金属研磨，侧重粒度分布和化学成分偏差

3.碳化硅研磨盘：高温环境下使用，检测热稳定性和粒度一致性

4.树脂粘结研磨盘：精密抛光应用，重点表面特性和均匀度指标

5.金属粘结研磨盘：高耐磨需求，检测耐磨性能和粒度分布宽度

6.陶瓷研磨盘：高温工业场景，侧重热膨胀系数和微观结构完整性

7.复合材料研磨盘：多层结构设计，检测各向异性和缺陷分布

8.纳米颗粒研磨盘：纳米级研磨作业，重点粒度在亚微米尺度的均匀性

9.抛光研磨盘：光学表面处理，检测粒度对表面粗糙度影响

10.半导体用研磨盘：高纯度要求，侧重杂质含量和粒度一致精度

检测方法

国际标准：

• ISO13320:2020Particlesizeanalysis-Laserdiffractionmethods
• ASTMB822-20JianCeTestMethodforParticleSizeDistributionbyLightScattering
• ISO9276-1:1998Representationofparticlesizeanalysisresults

• GB/T19077.1-2016粒度分析激光衍射法
• GB/T9258.1-2000粒度分析结果的表示
• GB/T4340.1-2009金属材料维氏硬度试验

检测设备

1.激光粒度分析仪：MalvernMastersizer3000（测量范围0.01-3500μm，精度±1%）

2.扫描电子显微镜：JEOLJSM-IT800（分辨率1nm，加速电压0.5-30kV）

3.维氏硬度计：WilsonVH1150（载荷范围10gf-10kgf，精度±0.5%）

4.密度计：MicromeriticsAccuPycII1340（精度0.03%，气体置换法）

5.ICP光谱仪：ThermoScientificiCAP7400（检测限0.1ppm，波长范围165-900nm）

6.表面粗糙度仪：MitutoyoSJ-210（测量范围350μm，分辨率0.001μm）

7.万能材料试验机：Instron3369（载荷范围0.02-50kN，精度±0.5%）

8.耐磨试验机：TaberAbraser5135（载荷250-1000gf，转数可调）

9.热分析仪：NetzschSTA449F3（温度范围RT-1650°C，精度±0.1°C）

10.金相显微镜：OlympusBX53M（放大倍数50-1000x，数码成像）

11.X射线衍射仪：BrukerD8Advance（角度范围0-160°，分辨率0.0001°）

12.粒度筛分仪：EndecottsEFL2000（筛网尺寸1-500μm，自动振动）

13.粘度计：BrookfieldDV2T（转速0.3-100rpm，扭矩范围0.1-100mN·m）

14.热膨胀仪：LinseisDIL76（精度0.05μm，温度速率0.1-50K/min）

15.缺陷检测仪：KeyenceVR-3200（3D扫描精度5μm，视野范围200mm）

北检(北京)检测技术研究院【简称：北检院】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

以上是与"研磨盘粒度分布均匀度测试"相关的简单介绍，具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。