检测项目

光栅周期精度检测：测量周期偏差范围（±5 nm）

占空比偏差检测：分析凹槽宽度与周期比值误差（±1.5%）

线宽一致性检测：评估刻线宽度波动（±2 μm）

衍射效率检测：验证指定波长下衍射能量分布（精度±0.8%）

表面粗糙度检测：Ra值控制（≤5 nm @ 10×10 μm²区域）

检测范围

半导体材料：硅基/砷化镓基微纳光栅

光学薄膜：多层介质膜衍射光栅

金属光栅：铝/金镀层闪耀光栅

聚合物基材：柔性光栅器件

陶瓷基板：高温环境用光栅传感器

检测方法

ASTM E284-17：光学表面缺陷定量分析

ISO 10110-6:2015：光栅衍射波前畸变检测

GB/T 13323-2009：光栅常数测定方法

ISO 14999-4:2015：衍射光学元件参数检测

GB/T 33145-2016：微纳结构三维形貌测量规范

检测设备

ZYGO Verifire™ XP/D激光干涉仪：周期精度检测（分辨率0.1 nm）

Bruker ContourGT-X3光学轮廓仪：表面粗糙度与三维形貌分析

Shimadzu UV-3600i Plus分光光度计：200-2500 nm波段衍射效率测试

Olympus LEXT OLS5000激光共聚焦显微镜：线宽重复性测量（精度±0.5 μm）

OceanView HR4000高分辨率光谱仪：±0.02 nm波长精度光谱特性检测