检测项目
光栅周期精度检测：测量周期偏差范围（±5 nm）
占空比偏差检测：分析凹槽宽度与周期比值误差（±1.5%）
线宽一致性检测：评估刻线宽度波动（±2 μm）
衍射效率检测：验证指定波长下衍射能量分布（精度±0.8%）
表面粗糙度检测：Ra值控制（≤5 nm @ 10×10 μm²区域）
检测范围
半导体材料：硅基/砷化镓基微纳光栅
光学薄膜：多层介质膜衍射光栅
金属光栅：铝/金镀层闪耀光栅
聚合物基材：柔性光栅器件
陶瓷基板：高温环境用光栅传感器
检测方法
ASTM E284-17：光学表面缺陷定量分析
ISO 10110-6:2015：光栅衍射波前畸变检测
GB/T 13323-2009：光栅常数测定方法
ISO 14999-4:2015：衍射光学元件参数检测
GB/T 33145-2016：微纳结构三维形貌测量规范
检测设备
ZYGO Verifire™ XP/D激光干涉仪：周期精度检测（分辨率0.1 nm）
Bruker ContourGT-X3光学轮廓仪：表面粗糙度与三维形貌分析
Shimadzu UV-3600i Plus分光光度计：200-2500 nm波段衍射效率测试
Olympus LEXT OLS5000激光共聚焦显微镜：线宽重复性测量（精度±0.5 μm）
OceanView HR4000高分辨率光谱仪：±0.02 nm波长精度光谱特性检测