检测项目
化学成分分析（SiO₂、Al₂O₃、Fe₂O₃含量检测，误差≤0.5%）
粒度分布测定（D10/D50/D90粒径范围，检测精度±0.1μm）
比表面积测试（BET法，测量范围0.01-2000 m²/g）
晶体结构表征（XRD半峰宽≤0.02°，扫描速度2°/min）
杂质元素检测（ICP-OES法，检出限≤1ppm）
检测范围
金属氧化物粉末（氧化锌、氧化钛、氧化铝等）
陶瓷原料粉末（氧化锆、氧化钇稳定氧化锆等）
催化剂载体材料（分子筛、氧化硅-氧化铝复合物）
电子材料（铁氧体、压电陶瓷前驱体）
环保材料（活性氧化铝、脱硫剂载体）
检测方法
ASTM E1621-13：X射线荧光光谱法测定氧化物含量
ISO 13320:2020：激光衍射法测定粒度分布
GB/T 13390-2008：气体吸附法测定比表面积
ISO 20203:2015：X射线衍射法定性定量分析晶相
GB/T 23942-2009：电感耦合等离子体发射光谱法测定杂质
检测设备
Rigaku ZSX Primus III X射线荧光光谱仪（成分分析）
Malvern Mastersizer 3000激光粒度分析仪（0.01-3500μm量程）
Micromeritics ASAP 2460比表面积分析仪（四站式气体吸附）
Bruker D8 Advance X射线衍射仪（Cu靶，LynxEye探测器）
PerkinElmer Avio 500 ICP-OES（轴向观测，双同步校准）