检测项目

硫化铜（CuS）含量测定：检测范围≥99.5%，误差±0.2%

杂质元素分析：Fe≤0.05%、Pb≤0.02%、As≤0.01%

晶体结构表征：晶胞参数a=3.796Å，c=16.36Å（六方晶系）

粒度分布检测：D50≤5μm，D90≤15μm

热稳定性测试：分解温度≥220℃（氮气氛围）

检测范围

铜矿选冶原料及中间产物

冶金行业用硫化铜添加剂

锂离子电池正极前驱体材料

电子工业用半导体掺杂材料

催化剂载体用高纯度硫化铜

检测方法

X射线荧光光谱法（XRF）：GB/T 16597-2019，ASTM D5381

电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-OES）：ISO 11885:2007，GB/T 36590-2018

X射线衍射分析法（XRD）：ASTM E915-19，GB/T 23413-2009

激光粒度分析法：ISO 13320:2020，GB/T 19077-2016

热重-差示扫描量热联用法（TG-DSC）：ASTM E1131-20，GB/T 27761-2011

检测设备

X射线荧光光谱仪：Thermo Scientific ARL PERFORM'X，检测元素范围Na-U

多晶X射线衍射仪：Rigaku SmartLab SE，角度精度±0.0001°

激光粒度分析仪：Malvern Panalytical Mastersizer 3000，测量范围0.01-3500μm

同步热分析仪：NETZSCH STA 449 F5 Jupiter，温度范围RT-1550℃

全谱直读ICP-OES：PerkinElmer Avio 500，检出限≤1ppb