检测项目
1. 薄膜厚度(nm，0.1~1000)
2. 折射率n(1.0~2.5)
3. 消光系数k(0~5)
4. 表面粗糙度Ra(nm)
5. 附着力(MPa，≥10)
检测范围
1. 光学镀膜：AR增透膜、HR高反膜
2. 半导体薄膜：SiO₂、Si₃N₄钝化层
3. 硬质涂层：TiN、DLC类金刚石膜
4. 透明导电膜：ITO薄膜
5. 阻隔薄膜：Al₂O₃原子层沉积膜
检测方法
1. GB/T 26333-2010 纳米薄膜厚度的测量方法
2. GB/T 32269-2015 纳米技术薄膜厚度测量X射线反射法
3. ISO 14707:2015 表面化学分析X射线光电子能谱
4. ASTM E1301-22 椭偏仪标准方法
5. GB/T 33495-2016 纳米薄膜附着力测定
检测设备
1. 椭偏仪(J.A.Woollam M-2000)：波长190~1690nm
2. X射线反射仪(帕纳科Empyrean)：角度精度0.0001°
3. 原子力显微镜(Bruker Dimension Icon)：分辨率0.1nm
4. 台阶仪(KLA Tencor P-7)：垂直分辨率0.5Å
5. X射线光电子能谱(赛默K-Alpha)：Al Kα源
6. 扫描电子显微镜(蔡司Sigma 500)：分辨率1.0nm
7. 透射电子显微镜(JEOL JEM-2100F)：分辨率0.19nm
8. 划痕仪(Anton Paar MST³)：载荷0~30N
9. 四探针测试仪(Keithley 2400)：电阻率0.001~1000Ω·cm
10. 紫外可见分光光度计(岛津UV-3600)：波长175~3300nm