检测项目

主成分纯度检测：ScI3含量≥99.99%（质量分数）

金属杂质元素检测：Fe、Al、Ca、Na、K等≤10ppm

非金属杂质检测：O≤200ppm，N≤50ppm，C≤100ppm

晶体结构分析：XRD特征峰偏差≤0.02°（2θ）

水分含量检测：H2O≤0.05%（卡尔费休法）

粒度分布检测：D50=1-5μm，D90≤10μm

表观密度检测：1.5-2.0g/cm³（振实密度）

检测范围

高纯碘化钪晶体（4N级及以上）

金属卤化物灯用碘化钪原料

半导体掺杂材料（MBE源材料）

有机合成催化剂前驱体

特种光学镀膜材料

核医学示踪剂原料

检测方法

ICP-MS法：ISO 17294-2:2016测定痕量金属杂质

X射线衍射法：GB/T 23413-2009晶体结构验证

惰性气体熔融法：ASTM E1019-18测定氧氮含量

库仑法水分测定：GB/T 6283-2008卡尔费休水分仪

激光衍射法：ISO 13320:2020粒度分析

化学滴定法：GB/T 223.87-2018主含量测定

BET比表面法：ISO 9277:2010表面特性分析

检测设备

Thermo Fisher iCAP RQ ICP-MS：ppb级元素分析

PANalytical X'Pert3 Powder XRD：0.0001°角度分辨率

Leco ONH836氧氮氢分析仪：0.1ppm检测限

Malvern Mastersizer 3000：0.01-3500μm量程

Mettler Toledo C30S卡尔费休滴定仪：0.001mg精度

Quantachrome Nova 4200e比表面仪：0.0001m²/g分辨率

Rigaku ZSX Primus IV XRF：多元素同步检测