检测项目

1. 纯度分析：主成分含量≥99.999%（5N级），采用GC-MS/HPLC定量

2. 金属杂质：ICP-MS测定Na、K、Fe等18种元素（检出限≤0.1ppb）

3. 颗粒物控制：激光粒度仪检测0.1-10μm粒径分布（ISO 21501）

4. 水分含量：卡尔费休库仑法（检出限1ppm），符合GB/T 6283

5. 热稳定性：TGA/DSC联用分析分解温度（升温速率10℃/min）

检测范围

1. 光刻胶：包括g线/i线、KrF/ArF光刻胶的显影残留物检测

2. 蚀刻液：磷酸系、氟化铵系溶液的金属离子浓度监控

3. CMP抛光液：二氧化硅/氧化铈磨料粒径及Zeta电位测定

4. 电子级溶剂：异丙醇、NMP等VOCs含量及水分控制

5. 封装材料：环氧树脂固化度与离子杂质（Cl⁻≤50ppm）

检测方法

1. ASTM D1976-20《电感耦合等离子体质谱法测定高纯试剂》

2. ISO 14644-7:2004《洁净室悬浮粒子浓度分级》

3. GB/T 37249-2018《电子化学品纯度及杂质含量的测定》

4. JIS K0114:2021《气相色谱分析通则》

5. SEMI C35-0309《光刻胶金属污染物测试指南》

检测设备

1. Agilent 7900 ICP-MS：多元素同步分析（质量数范围3-270amu）

2. Thermo Scientific iCAP RQ：三重四极杆质谱（检出限0.01ppt）

3. Malvern Mastersizer 3000：激光衍射粒度分析（0.01-3500μm）

4. Metrohm 917 Coulometer：全自动卡尔费休水分仪（精度±1μg）

5. PerkinElmer Clarus 690 GC-MS：EI/CI双电离源（质量范围1-1100Da）

6. Shimadzu TGA-50：热重分析仪（温度范围RT-1000℃）

7. Metrohm Autolab PGSTAT204：电化学工作站（电流分辨率10pA）

8. HORIBA LA-960V2：动态光散射Zeta电位仪（pH 2-12适用）

9. Agilent 1260 Infinity II HPLC：四元梯度泵（压力范围0-600bar）

10. Mettler Toledo SevenExcellence：多参数离子计（ORP/DO/电导率）