检测项目

1. 粒径分布：D10(1-5μm)、D50(5-20μm)、D90(20-50μm)三级分位值

2. 晶型结构：XRD半峰宽(FWHM≤0.5°)、晶格畸变率(≤3%)

3. 表面电荷密度：Zeta电位(-30mV至+30mV)

4. 热稳定性：TG-DSC分析失重率(≤5%@500℃)

5. 化学纯度：ICP-OES检测金属杂质总量(≤100ppm)

检测范围

1. 金属合金：铝合金晶粒细化剂、钛合金β相稳定剂

2. 半导体材料：硅单晶籽晶、GaAs外延层

3. 催化剂：ZSM-5分子筛、贵金属纳米晶种

4. 医药结晶：API药物多晶型控制剂

5. 陶瓷材料：氧化锆相变稳定晶种

检测方法

1. ASTM E112-13：金相法测定平均晶粒度

2. ISO 13320:2020：激光衍射法粒度分析

3. GB/T 13301-2019：钢的奥氏体晶粒度测定

4. ISO 22412:2017：动态光散射法纳米颗粒表征

5. GB/T 30714-2014：X射线衍射晶体结构分析

检测设备

1. 马尔文 Mastersizer 3000：激光衍射粒度仪（0.01-3500μm）

2. 布鲁克 D8 ADVANCE：X射线衍射仪（Cu靶,40kV/40mA）

3. 日立 SU8010：场发射扫描电镜（1nm分辨率）

4. 珀金埃尔默 STA8000：同步热分析仪（RT-1500℃）

5. 安捷伦 720ES：电感耦合等离子体发射光谱仪

6. 麦奇克 Nicomp 380：动态光散射仪（0.3nm-10μm）

7. 岛津 XRD-7000：多功能X射线衍射仪

8. FEI Talos F200X：透射电子显微镜（STEM模式）

9. 雷尼绍 inVia Qontor：共聚焦拉曼光谱仪

10. 梅特勒 Toledo SevenExcellence：pH/电导率仪