允许弥散圈检测

检测项目1.弥散圈直径偏差:测量实际直径与理论值的偏差范围(0.05μm~5μm)2.形状均匀性指数:计算椭圆度偏差(≤5%)及边缘锐度(Ra≤0.1μm)3.分布密度误差:统计单位面积(1mm)内弥散圈数量波动(CV≤15%)4.散射光强度比:测定532nm/1064nm波长下散射光强度比值(0.8-1.2)5.热稳定性参数:记录80℃/24h老化后直径变化率(ΔD≤3%)检测范围1.光学玻璃基材:包括BK7、熔融石英等折射率1.45-1.89的透明介质2.金属反射涂层:铝膜(厚度80-200nm)、银

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检测项目

1.弥散圈直径偏差:测量实际直径与理论值的偏差范围(0.05μm~5μm)

2.形状均匀性指数:计算椭圆度偏差(≤5%)及边缘锐度(Ra≤0.1μm)

3.分布密度误差:统计单位面积(1mm)内弥散圈数量波动(CV≤15%)

4.散射光强度比:测定532nm/1064nm波长下散射光强度比值(0.8-1.2)

5.热稳定性参数:记录80℃/24h老化后直径变化率(ΔD≤3%)

检测范围

1.光学玻璃基材:包括BK7、熔融石英等折射率1.45-1.89的透明介质

2.金属反射涂层:铝膜(厚度80-200nm)、银膜(厚度50-150nm)等

3.高分子薄膜材料:PET(厚度12-250μm)、PC(厚度0.5-5mm)基材

4.陶瓷基复合材料:氧化铝(纯度≥99%)、氮化硅(晶粒尺寸≤5μm)基板

5.半导体晶圆表面:硅片(直径200-300mm)、砷化镓基片(表面粗糙度≤1nm)

检测方法

ASTME2867-19《StandardTestMethodforSurfaceDefectDetectionUsingOpticalScattering》规定散射光成像法

ISO13696:2022《Opticsandphotonics-Laserinduceddamagethreshold》定义激光损伤阈值测试规范

GB/T22461-2008《光学薄膜元件表面疵病测试方法》明确暗场显微观测要求

GB/T34334-2017《激光光学元件表面疵病检测方法》规定CCD成像系统参数

ISO10110-7:2017《光学和光子学制图要求第7部分:表面缺陷公差》量化允许缺陷等级

检测设备

1.MitutoyoQuickVisionElite系列影像测量仪(分辨率0.1μm,放大倍率50-500X)

2.OlympusLEXTOLS5000激光共聚焦显微镜(Z轴分辨率10nm,405nm激光源)

3.BrukerContourGT-X3白光干涉仪(垂直分辨率0.01nm,扫描速度50μm/s)

4.KEYENCEVHX-7000数字显微镜(4KCMOS传感器,景深合成功能)

5.ZeissAxioImagerM2m金相显微镜(微分干涉对比DIC模块)

6.ShimadzuSALD-7500nano激光粒度仪(波长405/650nm双光源系统)

7.AgilentCary7000全能型分光光度计(积分球附件Φ150mm)

8.NikonNIS-ElementsAR分析软件(自动识别算法支持ISO10110标准)

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

  • 报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
  • 检测周期:7~15工作日,可加急。
  • 资质:旗下实验室拥有CMA/CNAS/ISO资质。
  • 标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
  • 非标测试:支持定制化试验方案。
  • 售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

QUALIFICATIONS

旗下实验室 · 资质荣誉

CMA / CNAS / ISO 资质齐全,荣誉证书点击可查看大图

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