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三氟化铟检测

  • 原创官网
  • 2025-03-04 15:44:52
  • 关键字:三氟化铟测试范围,三氟化铟测试方法,三氟化铟项目报价
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三氟化铟检测概述:三氟化铟(InF₃)是一种高纯度无机化合物,广泛应用于半导体、光学镀膜及特种玻璃制造。其检测需重点关注纯度、成分稳定性及杂质含量等核心指标。本文从检测项目、范围、方法及设备四方面系统阐述三氟化铟的质量控制要点,涵盖国际标准与先进分析技术的综合应用。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

纯度分析:检测主成分InF₃含量≥99.99%(质量分数)

氟含量测定:氟元素占比理论值误差≤±0.3%

金属杂质检测:Fe、Cu、Ni等过渡金属≤5ppm

氧含量控制:氧杂质≤100ppm(特殊级要求≤50ppm)

粒度分布测试:D50粒径范围1-5μm,分布系数PDI<0.7

检测范围

半导体级三氟化铟靶材(纯度≥99.995%)

光学镀膜用InF₃前驱体粉末

氟化物玻璃制造原料

催化剂用纳米级三氟化铟

高纯电子陶瓷添加剂(粒径D90≤10μm)

检测方法

纯度检测:GB/T 32470-2015《高纯氟化铟化学分析方法》

氟含量测定:ASTM E815-16《氟化物化学分析方法》

金属杂质分析:ISO 17034:2016标准ICP-MS法(检出限0.1ppb)

氧含量测试:GB/T 4325-2013《无机化工产品氧含量测定》

粒度分析:ISO 13320:2020激光衍射法(测量范围0.1-3000μm)

检测设备

高分辨质谱仪:Thermo Fisher Scientific Element 2(检测精度0.001μg/g)

离子色谱仪:Dionex ICS-6000(氟离子检测限0.01mg/L)

电感耦合等离子体质谱仪:Agilent 7900(多元素同步检测模式)

氧氮分析仪:LECO ONH836(氧检测范围0.1-1000ppm)

激光粒度仪:Malvern Mastersizer 3000(干湿法双模式)

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与三氟化铟检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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