检测项目
纯度分析：检测主成分InF₃含量≥99.99%（质量分数）
氟含量测定：氟元素占比理论值误差≤±0.3%
金属杂质检测：Fe、Cu、Ni等过渡金属≤5ppm
氧含量控制：氧杂质≤100ppm（特殊级要求≤50ppm）
粒度分布测试：D50粒径范围1-5μm，分布系数PDI＜0.7
检测范围
半导体级三氟化铟靶材（纯度≥99.995%）
光学镀膜用InF₃前驱体粉末
氟化物玻璃制造原料
催化剂用纳米级三氟化铟
高纯电子陶瓷添加剂（粒径D90≤10μm）
检测方法
纯度检测：GB/T 32470-2015《高纯氟化铟化学分析方法》
氟含量测定：ASTM E815-16《氟化物化学分析方法》
金属杂质分析：ISO 17034:2016标准ICP-MS法（检出限0.1ppb）
氧含量测试：GB/T 4325-2013《无机化工产品氧含量测定》
粒度分析：ISO 13320:2020激光衍射法（测量范围0.1-3000μm）
检测设备
高分辨质谱仪：Thermo Fisher Scientific Element 2（检测精度0.001μg/g）
离子色谱仪：Dionex ICS-6000（氟离子检测限0.01mg/L）
电感耦合等离子体质谱仪：Agilent 7900（多元素同步检测模式）
氧氮分析仪：LECO ONH836（氧检测范围0.1-1000ppm）
激光粒度仪：Malvern Mastersizer 3000（干湿法双模式）