检测项目

纯度分析：检测主成分InF₃含量≥99.99%（质量分数）

氟含量测定：氟元素占比理论值误差≤±0.3%

金属杂质检测：Fe、Cu、Ni等过渡金属≤5ppm

氧含量控制：氧杂质≤100ppm（特殊级要求≤50ppm）

粒度分布测试：D50粒径范围1-5μm，分布系数PDI＜0.7

检测范围

半导体级三氟化铟靶材（纯度≥99.995%）

光学镀膜用InF₃前驱体粉末

氟化物玻璃制造原料

催化剂用纳米级三氟化铟

高纯电子陶瓷添加剂（粒径D90≤10μm）

检测方法

纯度检测：GB/T 32470-2015《高纯氟化铟化学分析方法》

氟含量测定：ASTM E815-16《氟化物化学分析方法》

金属杂质分析：ISO 17034:2016标准ICP-MS法（检出限0.1ppb）

氧含量测试：GB/T 4325-2013《无机化工产品氧含量测定》

粒度分析：ISO 13320:2020激光衍射法（测量范围0.1-3000μm）

检测设备

高分辨质谱仪：Thermo Fisher Scientific Element 2（检测精度0.001μg/g）

离子色谱仪：Dionex ICS-6000（氟离子检测限0.01mg/L）

电感耦合等离子体质谱仪：Agilent 7900（多元素同步检测模式）

氧氮分析仪：LECO ONH836（氧检测范围0.1-1000ppm）

激光粒度仪：Malvern Mastersizer 3000（干湿法双模式）