非常细的刻点检测

检测项目1.刻点直径测量:精度0.5μm(测量范围10-500μm)2.刻点深度分析:分辨率0.1μm(最大测量深度200μm)3.刻点间距公差:重复性误差≤0.3μm(基准间距50-1000μm)4.边缘粗糙度评估:Ra值0.05-1.6μm(采样长度0.08mm)5.三维形貌重构:Z轴分辨率5nm(扫描面积2020mm)检测范围1.金属基材:半导体引线框架/精密模具/微电子接插件2.高分子材料:光学导光板/微流控芯片/生物传感器基片3.陶瓷基板:LED封装基板/功率模块衬板/射频器件载体4.复合镀层

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检测项目

1.刻点直径测量:精度0.5μm(测量范围10-500μm)

2.刻点深度分析:分辨率0.1μm(最大测量深度200μm)

3.刻点间距公差:重复性误差≤0.3μm(基准间距50-1000μm)

4.边缘粗糙度评估:Ra值0.05-1.6μm(采样长度0.08mm)

5.三维形貌重构:Z轴分辨率5nm(扫描面积2020mm)

检测范围

1.金属基材:半导体引线框架/精密模具/微电子接插件

2.高分子材料:光学导光板/微流控芯片/生物传感器基片

3.陶瓷基板:LED封装基板/功率模块衬板/射频器件载体

4.复合镀层:硬盘磁头镀层/刀具涂层/耐磨表面处理层

5.光刻胶结构:集成电路掩模板/MEMS器件图形层

检测方法

ASTME384-22《材料显微硬度试验方法》规定压痕尺寸测量规范

ISO4287:2023《产品几何技术规范(GPS)表面结构:轮廓法术语》

GB/T6062-2021《产品几何技术规范(GPS)表面结构轮廓法接触(触针)式仪器的标称特性》

ISO25178-602:2022《非接触式共聚焦显微镜测量表面形貌》

GB/T34879-2017《微纳米尺度几何量测量仪器校准规范》

检测设备

1.OlympusDSX1000数码显微镜:配备20-7000倍物镜组与3D拼接模块

2.KeyenceVHX-7000超景深显微镜:支持0.1μm级实时景深扩展功能

3.BrukerContourGT-K白光干涉仪:垂直分辨率0.01nm的3D形貌重建系统

4.ZeissAxioCSM700共聚焦显微镜:配备405nm激光光源与光谱分析单元

5.MitutoyoQuickVisionPro影像测量仪:双远心光学系统与亚像素边缘识别算法

6.NikonMM-400测量显微镜:配置微分干涉对比(DIC)照明系统

7.AliconaInfiniteFocusG5焦点变化系统:轴向分辨率10nm的自动对焦扫描装置

8.HexagonOptivPerformance443三坐标测量机:集成激光扫描与接触式探针复合系统

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

  • 报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
  • 检测周期:7~15工作日,可加急。
  • 资质:旗下实验室拥有CMA/CNAS/ISO资质。
  • 标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
  • 非标测试:支持定制化试验方案。
  • 售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

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