


1. 剥离强度:测试范围0-100N/mm,剥离速率0.1-10mm/min,精度±1%
2. 拉伸粘结强度:测试范围0-50MPa,加载速率0.5-5mm/min
3. 剪切强度:测试范围0-30MPa,芯片尺寸0.5mm×0.5mm-20mm×20mm
4. 失效模式:粘附失效、内聚失效、混合失效,分析比例
5. 温度循环粘结强度:温度范围-65~150℃,循环次数0-1000次
1. 集成电路芯片:QFP,BGA,CSP,芯片尺寸1mm×1mm-35mm×35mm
2. 功率器件芯片:IGBT,MOSFET,芯片尺寸5mm×5mm-15mm×15mm
3. LED芯片:尺寸0.2mm×0.2mm-2mm×2mm,粘结强度≥10MPa
4. 存储芯片:NAND Flash,DRAM,粘结强度≥15MPa
5. MEMS芯片:加速度计,陀螺仪,粘结强度≥20MPa
1. JEDEC JESD22-B116A 芯片剪切强度的试验方法
2. IPC-TM-650 2.4.42 芯片粘结强度测试
3. GB/T 35005-2018 集成电路芯片粘结强度试验方法
4. ASTM D4541-22 用便携式附着力测试仪测定涂层拉脱强度的标准试验方法
5. MIL-STD-883K Method 2019.9 芯片剪切强度
1. 芯片推拉力测试机(Dage 4000):推力范围0-100kgf,拉力范围0-50kgf
2. 万能材料试验机(Instron 5944):最大载荷2kN,位移精度±0.5%
3. 剥离测试仪(Nordson Dage 4000):剥离力范围0-200N,精度±0.5%
4. 推拉力计(Mark-10 ESM303):最大载荷500N,精度±0.25%
5. 金相显微镜(Olympus BX51M):放大倍数50-1000X,失效模式观察
6. 扫描电子显微镜(ZEISS Sigma 500):分辨率1.0nm,断口形貌分析
7. 环境试验箱(Thermal Product Solutions DCS-100):温度范围-65~150℃,温变速率15℃/min
8. X射线检测系统(Nikon XT V 160):分辨率<1μm,最大样品尺寸300mm
9. 声学显微镜(Sonoscan D9000):扫描频率15-300MHz,分层缺陷检测
10. 数据采集系统(National Instruments PXIe-1073):采样率10kHz,通道数32
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与"芯片剥离强度检测"相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检检测技术研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。
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