检测项目

1.晶格面曲率半径测量:分辨率≤0.01nm⁻,测量范围0.1-500μm⁻

2.局部畸变梯度分析:精度0.05%,梯度范围0.001-10%

3.晶界偏移量计算:误差≤0.2nm,适用偏移量0.5-200nm

4.三维晶格弯曲角度分布:角度分辨率0.01,范围0-15

5.缺陷密度关联性评估:基于曲率-位错密度模型(Burgers矢量法)

检测范围

1.金属合金:钛合金、镍基高温合金等锻造/铸造件

2.半导体材料:SiC单晶衬底、GaN外延层

3.陶瓷材料:氧化锆增韧陶瓷、氮化硅结构件

4.高分子材料:液晶聚合物薄膜、取向结晶纤维

5.复合材料:碳纤维增强环氧树脂基体界面层

检测方法

1.X射线衍射法:ASTME1426(微区劳厄衍射)、ISO24173(电子背散射衍射)

2.透射电镜法:GB/T23414-2009(纳米束衍射技术)

3.同步辐射拓扑成像:ISO21466:2020(白光光束三维重构)

4.中子衍射法:GB/T36085-2018(大体积样品宏观曲率测量)

5.拉曼光谱法:ASTME2523(应力诱导频移校准)

检测设备

1.RigakuD/MAXRapidII微区X射线衍射仪:配备200μm准直器与IP探测器

2.TESCANMira3SEM-EBSD系统:分辨率1nm,角度精度0.5

3.JEOLJEM-ARM300F球差校正电镜:STEM模式晶格畸变成像

4.BrukerD8Discover高分辨衍射仪:Cu靶光源+二维Vantec500探测器

5.ZeissXradia620Versa显微CT:50nm空间分辨率三维重构

6.MalvernPanalyticalEmpyreanXRD平台:薄膜掠入射曲率分析模块

7.OxfordInstrumentsSymmetryEBSD探测器:高速CMOS相机(400fps)

8.HORIBALabRAMHREvolution拉曼光谱仪:532nm激光+1800gr/mm光栅

9.BrukerDektakXT轮廓仪:曲率半径间接测量模式(接触式)

10.ThermoFisherHeliosG4UXeFIB-SEM:原位样品制备与TEM联用系统