检测项目

束流稳定性检测:偏差范围≤±0.5%(10 mA~500 mA区间)

加速电压精度检测:误差值≤±0.1%(1 kV~30 kV范围)

聚焦性能检测:束斑直径≤50 μm(工作距离100 mm)

真空密封性检测:泄漏率≤1×10-9 Pa·m3/s

热负荷耐受性检测:连续工作120小时,温升≤15℃

检测范围

半导体材料:硅晶圆、砷化镓基板

金属薄膜涂层:铝、铜、金镀层

高分子复合材料:聚酰亚胺、聚四氟乙烯

光学镀膜材料:SiO2、TiO2多层膜

陶瓷基板:氧化铝、氮化铝基板

检测方法

ASTM E2735-20:束流稳定性动态测试方法

ISO 16700:2016:电子光学系统加速电压校准规范

GB/T 23414-2021:微束分析电子枪聚焦性能测试通则

GB/T 32293-2015:真空电子器件氦质谱检漏方法

ASTM E2651-19:电子枪热负荷循环试验标准

检测设备

KEITHLEY 2450源表:高精度束流输出与测量(0.1 pA~1 A)

FLUKE 8588A高压测试仪:30 kV级电压精度校准(±0.005%)

ZEISS GeminiSEM 500:束斑形貌分析(分辨率0.6 nm)

INFICON UL3000氦质谱检漏仪:真空密封性定量检测(灵敏度1×10-12 mbar·L/s)

FLIR T865热成像系统:非接触式热分布监测(-40℃~1500℃量程)