检测项目
束流稳定性检测:偏差范围≤±0.5%(10 mA~500 mA区间)
加速电压精度检测:误差值≤±0.1%(1 kV~30 kV范围)
聚焦性能检测:束斑直径≤50 μm(工作距离100 mm)
真空密封性检测:泄漏率≤1×10-9 Pa·m3/s
热负荷耐受性检测:连续工作120小时,温升≤15℃
检测范围
半导体材料:硅晶圆、砷化镓基板
金属薄膜涂层:铝、铜、金镀层
高分子复合材料:聚酰亚胺、聚四氟乙烯
光学镀膜材料:SiO2、TiO2多层膜
陶瓷基板:氧化铝、氮化铝基板
检测方法
ASTM E2735-20:束流稳定性动态测试方法
ISO 16700:2016:电子光学系统加速电压校准规范
GB/T 23414-2021:微束分析电子枪聚焦性能测试通则
GB/T 32293-2015:真空电子器件氦质谱检漏方法
ASTM E2651-19:电子枪热负荷循环试验标准
检测设备
KEITHLEY 2450源表:高精度束流输出与测量(0.1 pA~1 A)
FLUKE 8588A高压测试仪:30 kV级电压精度校准(±0.005%)
ZEISS GeminiSEM 500:束斑形貌分析(分辨率0.6 nm)
INFICON UL3000氦质谱检漏仪:真空密封性定量检测(灵敏度1×10-12 mbar·L/s)
FLIR T865热成像系统:非接触式热分布监测(-40℃~1500℃量程)