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二次除铜检测

  • 原创官网
  • 2025-04-08 12:46:48
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二次除铜检测概述:二次除铜检测是针对工业材料中残余铜杂质的精密分析过程,主要应用于冶金、电子及化工领域。通过定量测定铜含量及其分布形态,评估材料纯度与工艺稳定性。核心检测参数包括铜离子浓度、杂质元素比例及溶液理化指标,需结合光谱分析和化学滴定法完成数据验证,确保材料性能符合行业标准。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

1.残余铜含量测定:采用ICP-OES法检测浓度范围0.001%-0.1%(w/w)

2.杂质元素分析:同步测定铁/锌/镍等共存金属元素(≤50ppm)

3.溶液pH值监测:精度0.01pH单位(范围1.5-3.5)

4.温度梯度测试:记录反应体系20-50℃的铜析出效率

5.颗粒分布表征:激光粒度仪分析沉淀物D50≤5μm

检测范围

1.电解铜板表面处理液

2.PCB电镀槽液及退镀废液

3.镍基合金铸造中间体

4.贵金属精炼过程浸出液

5.再生铜材冶炼渣滓

检测方法

1.ASTME1834-21《火花原子发射光谱法测定镍合金中痕量元素》

2.ISO11885:2007《水质-电感耦合等离子体发射光谱法测定62种元素》

3.GB/T5121.20-2023《铜及铜合金化学分析方法第20部分:砷量的测定》

4.ASTMD1688-17《工业废水中铜含量的化学测试方法》

5.GB/T20975.25-2020《铝及铝合金化学分析方法第25部分:电感耦合等离子体质谱法》

检测设备

1.ThermoScientificiCE3500原子吸收光谱仪(AAS):检出限0.05ppm

2.PerkinElmerOptima8300电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES):波长范围165-782nm

3.MalvernMastersizer3000激光粒度分析仪:测量范围0.01-3500μm

4.Metrohm905Titrando自动电位滴定仪:分辨率0.1μL

5.HACHHQ40d多参数水质分析仪:支持pH/ORP/电导率同步测量

6.ShimadzuEDX-7000X射线荧光光谱仪(XRF):元素分析范围Na-U

7.MettlerToledoSevenExcellencepH计:温度补偿精度0.1℃

8.Agilent7900ICP-MS质谱仪:检出限达ppt级

9.BinderED系列恒温干燥箱:控温范围40-300℃1℃

10.SartoriusQuintix224-1CN电子天平:称量精度0.1mg

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与二次除铜检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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