1. 位错密度测量:分辨率≤1×10^12 m^-2,误差范围±5%
2. 伯氏矢量方向测定:角度偏差≤0.5°
3. 滑移系统激活分析:临界分切应力测量精度±2 MPa
4. 位错线形态表征:TEM图像分辨率≥0.2 nm
5. 应力场分布建模:三维重构精度达95%置信区间
1. 金属材料:铝合金(AA6061-T6)、钛合金(Ti-6Al-4V)
2. 半导体材料:单晶硅(Si)、砷化镓(GaAs)
3. 陶瓷材料:氧化铝(Al₂O₃)、氮化硅(Si₃N₄)
4. 复合材料:碳纤维增强环氧树脂基体
5. 高分子材料:超高分子量聚乙烯(UHMWPE)
1. ASTM E3-11:透射电子显微镜法(TEM)标准操作规程
2. ISO 24173:2009:电子背散射衍射(EBSD)位错分析规范
3. GB/T 13298-2015:金属显微组织检验方法
4. ASTM E112-13:晶粒度测定中的位错密度计算法
5. ISO 16700:2016:扫描电子显微镜校准规程
1. FEI Tecnai G2 F20 TEM:配备高角环形暗场探测器(HAADF),点分辨率0.19 nm
2. Bruker D8 ADVANCE XRD:Cu Kα辐射源(λ=0.15406 nm),测角仪精度±0.0001°
3. Oxford Instruments Symmetry EBSD:空间分辨率≤50 nm,采集速率≥3000点/秒
4. JEOL JSM-7900F SEM:二次电子分辨率0.8 nm@15 kV
5. Hysitron TI 950纳米压痕仪:载荷分辨率10 nN,位移分辨率0.02 nm
6. Malvern Panalytical Empyrean XRD:配置应力分析模块,ψ角扫描范围±45°
7. Zeiss Crossbeam 550 FIB-SEM:离子束加速电压30 kV,定位精度±5 nm
8. Shimadzu HMV-G21显微硬度计:载荷范围10-1000 gf,压痕对角线测量误差±0.1 μm
9. Gatan K3 IS相机:TEM直接电子探测器,帧速率40 fps@4k分辨率
10. Bruker Dimension Icon AFM:扫描范围90 μm×90 μm,Z轴噪声<0.05 nm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与纯螺型位错检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。