检测项目

平面度公差检测：测量基准面与理论平面偏差值，检测范围±0.1μm至±50μm，适用EN ISO 12781:2011标准

表面粗糙度分析：Ra值0.01-6.3μm区间检测，支持Sa、Sz等多维度参数，符合ISO 25178-2:2022规范

厚度均匀性检测：分辨率达0.1μm的跨区域扫描，覆盖Φ300mm检测直径，满足ASTM F533-08标准要求

平面反射率测试：380-2500nm全波段光谱分析，入射角5°-85°可调，依据ASTM E903-20实施

残余应力分布检测：X射线衍射法测定应力梯度，检测深度0.1-50μm，遵循ISO/TR 28980:2007技术规范

检测范围

金属材料：航空铝合金精密加工件、超平不锈钢密封面、钛合金生物植入体表面

光学玻璃：光刻机投影透镜、激光谐振腔镜片、AR镀膜基板面形检测

半导体晶圆：8/12英寸硅片全局平整度、化合物半导体外延层厚度一致性检测

高分子薄膜：锂电池隔膜厚度分布、柔性显示基材表面缺陷、光学级PET薄膜粗糙度

陶瓷基板：氮化铝散热基板平面度、氧化锆齿科修复体咬合面精度检测

检测方法

激光干涉检测法：采用波长稳定性±0.1ppb的氦氖激光源，依据ASTM D7187-15测定平面波前误差

白光共聚焦扫描：基于ISO 25178标准的非接触式三维形貌重建，垂直分辨率达0.8nm

X射线衍射应力分析：执行ISO 21432:2019规范的sin²ψ法，配备四轴联动测角仪系统

光谱椭偏检测技术：按ASTM E1331-15标准建立光学常数模型，实现纳米级膜厚测量

电容式厚度测量：采用ASTM D6988-13规定的非破坏检测法，支持0-10mm量程自动校准

检测设备

激光平面干涉仪：Zygo Verifire HD，配置600mm口径标准平晶，PV值重复性≤λ/100

三维表面轮廓仪：Taylor Hobson Form Talysurf i-Series，配备1200万像素彩色共聚焦探头

薄膜厚度测量系统：Filmetrics F20，支持0.5nm-500μm跨尺度测量，集成MEMS自动对焦模块

全自动分光光度计：Shimadzu UV-2600i，配备积分球附件，满足ASTM E308反射率测试要求

X射线应力分析仪：Bruker D8 Discover，配置Hi-Star二维探测器，Cr-Kα辐射源能量分辨率＜0.4°

技术优势

获得CNAS（中国合格评定国家认可委员会）认证证书编号详情请咨询工程师，检测数据国际互认

建立ISO/IEC 17025:2017质量管理体系，关键设备定期通过NIST标准物质溯源

配备Class 100洁净检测室，温控精度±0.1℃，湿度波动≤±2%RH

检测团队持有ASNT III级认证人员3名，ISO 9712认证工程师5名

参与制定GB/T 29545-2013《精密平面检测方法》等3项国家标准

　　以上是与全平面检测相关的简单介绍，具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。