盘状核粒检测

检测项目1.粒径分布分析:测量D10/D50/D90值,偏差率≤3%2.厚度均匀性检测:厚度公差0.05μm(基准厚度0.1-5μm)3.表面粗糙度测定:Ra值≤0.2μm(接触式探针法)4.圆度系数计算:采用ISO9276-6标准,目标值≥0.855.元素成分验证:EDS能谱分析,主元素含量误差≤1wt%检测范围1.金属粉末:钛合金/铝合金盘状粉末(粒径0.5-10μm)2.陶瓷基片:氮化硅/氧化铝电子封装基板(厚度0.1-1mm)3.高分子薄膜:聚酰亚胺柔性电路基材(表面粗糙度Ra≤0.3μm)4.半

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检测项目

1.粒径分布分析:测量D10/D50/D90值,偏差率≤3%
2.厚度均匀性检测:厚度公差0.05μm(基准厚度0.1-5μm)
3.表面粗糙度测定:Ra值≤0.2μm(接触式探针法)
4.圆度系数计算:采用ISO9276-6标准,目标值≥0.85
5.元素成分验证:EDS能谱分析,主元素含量误差≤1wt%

检测范围

1.金属粉末:钛合金/铝合金盘状粉末(粒径0.5-10μm)
2.陶瓷基片:氮化硅/氧化铝电子封装基板(厚度0.1-1mm)
3.高分子薄膜:聚酰亚胺柔性电路基材(表面粗糙度Ra≤0.3μm)
4.半导体晶圆:硅/碳化硅外延片(TTV≤1μm)
5.催化剂载体:蜂窝陶瓷DPF基体(孔径分布10-200PPI)

检测方法

1.ASTMB822-20:激光衍射法测定粒度分布
2.ISO25178-2:2022:非接触式三维表面形貌分析
3.GB/T19077-2016:动态图像分析法测量颗粒圆度
4.ISO14703:2020:扫描电镜样品制备规范
5.GB/T23413-2009:纳米颗粒厚度X射线反射法

检测设备

1.MalvernMastersizer3000:激光粒度仪(测量范围0.01-3500μm)
2.HitachiSU5000场发射电镜:分辨率1nm@15kV(配备OxfordEDS)
3.BrukerContourGT-K光学轮廓仪:垂直分辨率0.1nm
4.MicrotracS3500系列:三激光干湿法粒度分析系统
5.OlympusLEXTOLS5000:3D激光共聚焦显微镜(12000放大)
6.ShimadzuXRD-7000:薄膜厚度X射线衍射仪(精度0.02μm)
7.KeyenceVHX-7000数字显微镜:20-6000连续变倍观察
8.AntonPaarLitesizer500:纳米颗粒zeta电位分析仪
9.Agilent7900ICP-MS:痕量元素成分分析系统(ppb级检出限)
10.ZeissSigma500热场电镜:STEM模式分辨率0.8nm

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

  • 报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
  • 检测周期:7~15工作日,可加急。
  • 资质:旗下实验室拥有CMA/CNAS/ISO资质。
  • 标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
  • 非标测试:支持定制化试验方案。
  • 售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
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