电流增益(hFE):范围5-500,测试条件VCE=5V,IC=10mA
击穿电压(BVCEO):阈值范围30-1500V,漏电流≤1μA
漏电流(ICEO):标准值≤10nA@VCE=80% BVCEO
基极-发射极接触电阻:目标值≤0.5Ω·cm²
结温特性:工作温度-55℃~175℃,热阻≤1.5℃/W
单晶硅衬底材料(厚度100-500μm,电阻率0.1-100Ω·cm)
掺杂多晶硅发射极层(厚度50-200nm,磷/硼浓度1E19-1E21cm⁻³)
金属化电极(Al/Cu/TiW复合层,厚度0.5-2μm)
钝化层(SiO₂/SiNx,厚度100-500nm)
封装成品(TO-220/TO-247/D²PAK)
电流增益测试:ASTM F76-08(2020) 半导体器件直流参数测试
击穿电压测量:GB/T 4023-2015 半导体器件分立器件测试方法
漏电流分析:IEC 60747-1:2022 半导体器件通用规范
接触电阻测试:ASTM B539-20 导电材料电阻率标准试验方法
热特性验证:JESD22-A108D 温度循环试验标准
Keysight B1505A功率器件分析仪:支持2000V/1000A脉冲测试
Keithley 4200-SCS参数分析仪:精度0.1fA/1μV电学特性测试
Thermo Fisher Scios 2 DualBeam FIB-SEM:纳米级截面形貌分析
Bruker D8 Discover X射线衍射仪:晶体取向与应力测量
TAS Micro MT系列热阻测试系统:结温测量精度±0.1℃
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与多晶硅发射极晶体管检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。