检测项目
输出波长范围：190nm-10.6μm（紫外至远红外波段）
功率稳定性：±1.5%（连续模式下24小时波动值）
光束质量因子：M²≤1.3（基于ISO 11146标准测量）
脉冲宽度精度：±5fs（飞秒级激光系统）
光谱纯度：≥99.8%（主峰能量占比）
检测范围
半导体材料：GaAs、InP基片表面处理层
光学薄膜：增透膜/高反膜（厚度50-500nm）
气体介质：CO₂/N₂/O₂混合气体配比体系
聚合物材料：聚酰亚胺光刻胶（厚度1-10μm）
金属材料：铜/铝合金微结构加工件
检测方法
ASTM E2848-19：激光功率稳定性测试规程
ISO 11554:2017：光学系统激光束功率测量方法
GB/T 13384-2008：激光辐射参数测试方法通则
ISO 11146-1:2021：激光束宽度与发散角测定
GB/T 31359-2015：脉冲激光时域特性测量规范
检测设备
光谱分析仪：Yokogawa AQ6370D（波长分辨率0.02nm）
激光功率计：Ophir Vega（最大量程30kW）
光束质量分析仪：Spiricon M2-200（CCD分辨率1920×1200）
高速示波器：Keysight DSOX92504A（带宽25GHz）
环境试验箱：ESPEC PL-3KPH（温控精度±0.5℃）