1.镀层附着力:采用划格法(间距1mm)或拉力法(≥1.5N/mm)评估结合强度。
2.镀层厚度:测量范围为0.5-50μm,精度0.1μm(X射线荧光法)。
3.镀层均匀性:厚度偏差≤10%(多点采样分析)。
4.孔隙率:单位面积孔隙数≤5个/cm(硝酸蒸汽腐蚀法)。
5.导电性:电阻率≤1.810⁻⁶Ωcm(四探针法)。
1.印刷电路板(PCB)基材:FR-4、CEM-3等环氧树脂复合材料。
2.金属基板:铝基板、铜基板表面化学镀铜层。
3.陶瓷基板:氧化铝(Al₂O₃)、氮化铝(AlN)镀铜层。
4.半导体封装基板:BT树脂、ABF薄膜镀铜层。
5.柔性电路板(FPC):聚酰亚胺(PI)基材镀铜层。
1.ASTMB571:金属镀层附着力定性测试方法。
2.IPCTM-6502.4.1:印制板镀层剥离强度测试标准。
3.ISO3497:X射线荧光法测定金属镀层厚度。
4.GB/T4955:金属覆盖层厚度测量阳极溶解库仑法。
5.ASTMB809:多孔性镀层硝酸蒸汽腐蚀试验方法。
1.FischerXDV-μ型X射线荧光测厚仪:分辨率0.01μm,支持多层镀层分析。
2.Elcometer107划格测试仪:刀齿间距1mm/2mm可选,符合ISO2409标准。
3.KeysightB2902A精密源表:四探针电阻率测试精度0.05%。
4.OlympusBX53M金相显微镜:5000倍放大观察镀层微观结构。
5.PARSTAT4000电化学工作站:极化曲线法评估镀层耐蚀性。
6.MitutoyoSJ-410表面粗糙度仪:Ra测量范围0.01-50μm。
7.ThermoScientificK-Alpha+XPS能谱仪:元素成分深度剖析。
8.HitachiSU8010场发射电镜:纳米级孔隙形貌观测。
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与水平沉铜检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。