可送检的样品类型与对应检测项目

样品类型 典型应用场景 主要检测项目 常用方法 / 参考
磨料微粉 白刚玉、碳化硅微粉用于精密研磨抛光、固结磨具与涂附磨具制造 D50中位粒径、粒度分布曲线、F系与W系粒度号对应筛余、大颗粒尾端控制 筛析法标记F100-F240与W5-W63粒度号，激光衍射法GB/T 19077-2016复核分布
精细陶瓷粉体 氧化铝、氧化锆、氮化硅、碳化硅粉体用于结构陶瓷与电子陶瓷成型烧结 D50、D90、团聚体识别、分布宽度、浆料态粒度测定 GB/T 19077-2016湿法激光衍射，配合超声分散与镜检核验
硬质合金与钨钼粉末 碳化钨、钴粉、钨粉、钼粉用于硬质合金与粉末冶金压制烧结 费氏粒度、沉降粒度分布、D50控制、批次一致性比对 GB/T 6524-2003重力沉降光透法、ASTM B822-17光散射法
食品粉末 乳粉、可可粉、咖啡粉、小麦粉、植物蛋白粉的复溶性与口感控制 粒度分布、D50与分散复溶关联评价、团聚识别 激光衍射法干湿法联合测定
农药制剂粉体 可湿性粉剂、水分散粒剂与原药粉体的悬浮率与润湿性控制 D50、D90、分布宽度、悬浮性能关联粒度评价 激光衍射法湿法分散测定
聚合物粉末与粉末涂料 粉末涂料静电喷涂流平、聚四氟乙烯微粉与聚乙烯蜡粉润滑改性 D50约30-60μm控制、细粉与粗粉占比、粒形圆形度 干法激光衍射与动态图像法联合
纳米悬浮液与乳液 纳米材料分散液、乳化液滴、喷墨墨水与催化剂浆料的稳定性评价 流体力学直径、多分散指数、粒径随时间变化跟踪 动态光散射法ISO 22412:2017，173度背散射光路

检测项目

1. D50中位粒径：激光衍射法量程0.1-3000μm，重复性偏差优于0.5%

2. 边界粒径D10与D90：表征细粉端与粗粉端分布，纳米体系可测至1nm

3. 分布宽度span：按D90减D10再除以D50计算，粉体典型控制区间0.5-3.0

4. 大颗粒尾端控制：D99或规定目数筛余率，高端研磨材料常要求不超过0.3%

5. 多分散指数：动态光散射PDI小于0.3判定分散体系均匀性良好

6. 粒形参数：图像法圆形度与长径比统计，球形粉圆形度大于0.9

检测范围

1. 磨料微粉：白刚玉W5-W63、碳化硅W7-W40、棕刚玉F100-F240等

2. 精细陶瓷粉体：氧化铝、氧化锆、氮化硅、碳化硅粉，D50常见0.2-5μm

3. 硬质合金粉末：碳化钨粉费氏粒度0.5-8.0μm、钴粉、钨粉与钼粉等

4. 食品粉末：乳粉、可可粉、咖啡粉、小麦粉、植物蛋白粉等

5. 农药制剂：可湿性粉剂、水分散粒剂、原药与载体粉体等

6. 聚合物粉末：粉末涂料、聚四氟乙烯微粉、聚乙烯蜡粉等

检测方法

1. GB/T 19077-2016 粒度分析 激光衍射法

2. GB/T 6524-2003 金属粉末粒度分布测定 重力沉降光透法

3. ISO 13320:2020 粒度分析 激光衍射法（国际口径数据交叉复核）

4. ISO 22412:2017 粒度分析 动态光散射法（纳米悬浮液体系）

5. ASTM B822-17 金属粉末粒度分布测定 光散射法

6. ISO 9276-1:1998 粒度分析结果的表述 基本概念（分布数据处理与特征粒径计算）

检测设备

1. 湿法激光粒度仪：量程0.1-2600μm，配循环超声分散系统，重复性偏差优于0.5%

2. 干法激光粒度仪：量程0.3-3000μm，分散气压0.1-0.4MPa连续可调

3. 动态光散射纳米粒度仪：量程1nm-10μm，90度与173度双散射角配置

4. 电阻法颗粒计数器：量程0.4-1200μm，逐颗计数给出体积分布

5. 静态图像粒度粒形分析系统：量程1-10000μm，统计圆形度、长径比等形貌参数

6. 重力离心沉降粒度仪：量程0.05-300μm，X光透射检测双模式切换

7. 顶击式振筛机：配25μm-5mm标准试验筛，用于粗颗粒筛余核验

8. 超声波样品分散器：功率50-650W连续可调，配隔温水循环槽

9. 生物显微镜：放大倍数40-1000倍，配数码成像系统，用于分散状态镜检核验