检测项目

1.表面晶格常数测定:测量精度0.01,能量范围50-200eV。

2.表面重构类型识别:分析(11)、(21)等超晶格结构对称性。

3.吸附层有序性评估:覆盖度0.1-1ML(单层),角度分辨率0.5。

4.缺陷密度量化:缺陷密度范围1010-1014cm-2

5.热膨胀系数测定:温度范围80-1200K,控温精度0.5K。

检测范围

1.半导体材料:硅(Si)、锗(Ge)单晶表面及外延薄膜。

2.金属单晶表面:金(Au(111))、铜(Cu(100))等高指数晶面。

3.氧化物薄膜:TiO2(110)、Al2O3(0001)等界面结构。

4.催化剂表面:铂(Pt)、钯(Pd)纳米颗粒负载型催化剂。

5.二维材料:石墨烯、六方氮化硼(h-BN)层间堆垛分析。

检测方法

1.ASTME1523-15:低能电子衍射仪校准与操作规范。

2.ISO18117:2009:表面化学分析样品制备与处理指南。

3.GB/T30705-2014:晶体表面结构分析的实验方法通则。

4.ASTME2108-16:电子衍射图谱定量分析方法。

5.ISO18516:2019:表面分析技术分辨率测试标准。

检测设备

1.OmicronSPECSLEED系统:四栅极设计,能量分辨率≤0.5eV。

2.VGScientaR-LEED:旋转样品台配置,角度调节精度0.1。

3.KratosAXISSupraLEED-AES联用仪:集成俄歇电子能谱模块。

4.JEOLJAMP-9500F多功能系统:支持LEED与STM同步成像。

5.STAIBInstrumentsSLEED300:高温样品台(最高1300K)。

6.ThermoScientificESCALABXi+:多技术表面分析平台。

7.RHKTechnologyUHV-LEED:超高真空环境(≤510-10Torr)。

8.ParkSystemsNX-LEED:兼容原子力显微镜的联用系统。

9.ScientaOmicronErLEED1000:低能量电子枪(20-1000eV)。

10.BrukerD8DiscoverLEED附件:X射线衍射仪扩展模块。