检测项目
1. 薄膜厚度(1~500nm)
2. 折射率(1.0~3.0)
3. 沉积速率(0.1~10nm/s)
4. 表面粗糙度(Ra≤5nm)
5. 薄膜致密度(≥95%)
检测范围
1. 光学薄膜：TiO₂/SiO₂增透膜
2. 硬质涂层：TiN/CrN/Al₂O₃
3. 功能薄膜：ITO透明导电膜
4. 介质薄膜：Si₃N₄/SiO₂
5. 金属薄膜：Au/Ag/Cu/Pt
检测方法
1. GB/T 33078-2016 纳米技术 纳米薄膜厚度测量
2. ISO 14706:2015 表面化学分析 纳米薄膜
3. ASTM E2530-2019 X射线反射法薄膜测量
4. GB/T 33714-2017 纳米技术表征方法
5. ISO 17331:2015 表面化学分析 薄膜元素分析
检测设备
1. 椭偏仪(J.A. Woollam M-2000)：波长190~1700nm，厚度精度0.01nm
2. X射线衍射仪(Bruker D8 ADVANCE)：角度范围0~160°
3. 原子力显微镜(Bruker Dimension Icon)：Z轴分辨率0.03nm
4. 扫描电子显微镜(SUPRA 55)：分辨率1.0nm@15kV
5. X射线光电子能谱(Thermo K-Alpha)：能量范围0~4000eV
6. 磁控溅射镀膜仪(JS-450)：功率0~1500W
7. 石英晶体微天平(QCM)：频率精度0.01Hz
8. 表面轮廓仪(Dektak XT)：垂直分辨率0.1nm
9. 透射电子显微镜(Talos F200X)：分辨率0.12nm