晶粒尺寸分布:测量范围0.5μm–500μm,偏差精度±2%
位错密度分析:分辨率≥106 cm-2,误差<5%
晶界取向差角:角度范围2°–62.8°,EBSD步长0.05–5μm
孪晶界比例:检测阈值0.1%,统计样本≥1000晶粒
析出相分布均匀性:相尺寸检测下限10nm,面积占比分析精度±0.5%
金属材料:铝合金(AA6061/7075)、钛合金(Ti-6Al-4V)、高温合金(Inconel 718)
陶瓷材料:氧化铝(Al2O3)、氮化硅(Si3N4)
半导体材料:单晶硅(Si)、砷化镓(GaAs)
高分子材料:聚乙烯(UHMWPE)、聚四氟乙烯(PTFE)
复合材料:碳纤维增强环氧树脂(CFRP)、金属基复合材料(MMC)
ASTM E112:晶粒度测定标准(适用金属及合金)
ISO 17721-1:2021:透射电镜(TEM)位错密度定量分析
GB/T 13298-2015:金相显微镜晶界腐蚀与观察规范
ASTM E2627:电子背散射衍射(EBSD)取向成像
ISO 22262-2:2020:X射线衍射(XRD)残余应力检测
扫描电子显微镜(SEM):FEI Nova NanoSEM 450,配备EDAX EBSD系统,分辨率1.0nm@15kV
透射电子显微镜(TEM):JEOL JEM-ARM200F,球差校正,点分辨率0.08nm
X射线衍射仪:Bruker D8 ADVANCE,Cu靶Kα辐射(λ=0.154nm),角度精度±0.001°
金相显微镜:Leica DM2700M,偏振光模式,最大放大倍数1000×
原子力显微镜(AFM):Bruker Dimension Icon,峰值力轻敲模式,Z轴分辨率0.1nm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与晶粒内结构检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。