晶粒尺寸分布:测量区间0.5-500μm,分辨率±0.2μm
平均晶粒尺寸偏差:ASTM E112标准G系列评级
晶界角度分布:统计角度偏差>15°的异常晶界占比
局部异常区域占比:检测面积≥5mm²,异常阈值>3σ
相邻晶粒尺寸差异比:计算相邻晶粒尺寸比≥2:1的区域密度
金属合金:铝合金(2XXX/7XXX系列)、钛合金(TC4/TC11)
陶瓷材料:氧化锆(3Y-TZP)、碳化硅(SiC)结构陶瓷
高温合金:镍基合金(Inconel 718/625)
半导体材料:硅晶圆(300mm)、砷化镓单晶
复合材料:碳纤维增强环氧树脂(CFRP/T800级)
金相分析法:ASTM E112-13、GB/T 6394-2017
电子背散射衍射:ISO 16700:2019、GB/T 35099-2018
X射线衍射法:ISO 22278:2020晶粒尺寸测定
激光共聚焦显微镜法:ASTM E1245-03(2016)
数字图像处理法:ISO 13383-1:2016自动分析规范
Olympus GX53倒置金相显微镜:配备Stream图像分析软件,支持ASTM E112自动评级
Oxford Instruments Symmetry EBSD探测器:空间分辨率50nm,角度分辨率0.5°
Hitachi SU5000场发射扫描电镜:配备Bruker Quantax EDS系统,工作电压0.5-30kV
Malvern Mastersizer 3000激光粒度仪:测量范围10nm-3.5mm,符合ISO 13320标准
Leica DMI8数字显微系统:支持3D表面重构,Z轴分辨率10nm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与不均匀晶粒检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。