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多次位错检测

  • 原创官网
  • 2025-03-19 16:15:33
  • 关键字:多次位错测试案例,多次位错测试机构,多次位错测试仪器
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多次位错检测概述:多次位错检测是材料科学和工程领域的关键质量控制手段,通过高精度分析晶体缺陷分布及动态演变规律,评估材料力学性能与可靠性。核心检测要点包括位错密度、滑移系激活状态、位错交互作用强度等,需结合先进表征技术与国际标准方法,适用于金属、半导体、陶瓷等多种材料体系。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

位错密度定量分析(检测范围:104-108 cm-2

位错滑移系取向测定(精度±0.1°)

位错网络拓扑结构表征(分辨率≤5 nm)

位错-析出相交互作用强度(应力场分析范围0.1-5 GPa)

动态加载下位错运动轨迹追踪(帧率≥1000 fps)

位错芯区原子结构解析(电子束能量80-300 keV)

检测范围

金属材料:铝合金(AA2024/7075)、钛合金(Ti-6Al-4V)、镍基高温合金(Inconel 718)

半导体材料:硅单晶(<100>/<111>晶向)、GaN外延层、碳化硅晶圆

复合材料:碳纤维增强钛基复合材料(Cf/Ti)、氧化铝颗粒增强铝基复合材料

陶瓷材料:氧化锆(3Y-TZP)、氮化硅(Si3N4)结构陶瓷

功能材料:形状记忆合金(NiTi)、压电陶瓷(PZT-5H)

检测方法

透射电子显微镜法:ASTM E112-13、GB/T 13298-2015

X射线衍射法:ISO 22278:2020、GB/T 8362-2018

电子背散射衍射法:ASTM E2627-13、ISO 24173:2009

同步辐射拓扑成像法:ISO 22309:2011

原子探针层析技术:ASTM E2859-11

分子动力学模拟验证:GB/T 38214-2019

检测设备

场发射透射电镜:JEOL JEM-ARM300F(球差校正,点分辨率0.08 nm)

X射线衍射仪:Bruker D8 ADVANCE(Cu Kα辐射,2θ范围5°-165°)

聚焦离子束系统:Thermo Fisher Scios 2(离子束加速电压0.5-30 kV)

原位力学测试平台:Kammrath & Weiss Tensile Stage(最大载荷5 kN,温度范围-150°C-1200°C)

三维原子探针:CAMECA LEAP 5000XR(质量分辨率m/Δm≥2000)

同步辐射装置:上海光源BL13W1线站(能量范围5-40 keV)

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与多次位错检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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