光学显微镜法检测概述:光学显微镜法检测是一种基于光学成像原理的材料表征技术,广泛应用于材料科学、生物医学及工业质检领域。该方法通过物镜与目镜组合放大样本微观结构,结合图像分析系统实现形貌观察、尺寸测量及缺陷分析。核心检测参数包括分辨率(≥0.2μm)、放大倍数(40-1000×)及照明模式选择,需严格遵循ASTME883、GB/T26645等标准规范操作流程。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。
1.表面形貌分析:测量表面粗糙度Ra(0.1-10μm)、划痕深度(1-200μm),采用微分干涉对比技术
2.粒径分布测定:分析颗粒直径范围(0.5-500μm),统计D10/D50/D90值
3.涂层厚度测量:测定金属/非金属涂层厚度(1-200μm),误差≤±2%
4.晶体结构观察:解析晶粒尺寸(5-500μm),测定晶界角度(精度±0.5°)
5.缺陷检测:识别裂纹宽度(≥0.5μm)、孔隙率(0.1-30%),定位精度±1μm
1.金属材料:包括铝合金、钛合金的金相组织分析及热处理效果评估
2.高分子材料:PE/PP/PET的结晶形态观察及添加剂分散度检测
3.半导体器件:晶圆表面缺陷检测及微电路线宽测量(5-200μm)
4.生物样品:细胞形态观测(10-100μm)及组织切片病理分析
5.陶瓷材料:气孔率测定(0.5-50μm)及晶相结构表征
ASTME883-21《金相显微镜照相方法标准指南》规定明场/暗场照明规范
ISO10934-2:2021《光学和光子学显微镜词汇第2部分》定义放大倍率校准方法
GB/T26645.1-2022《无损检测工业计算机层析成像(CT)检测第1部分》指导三维重构技术
GB/T17473.3-2022《微束分析电子探针显微分析EPMA第3部分》关联能谱分析应用
ISO8036:2021《显微镜浸液》规范油镜使用标准(折射率1.515±0.002)
1.OlympusBX53M:配备DP27数码相机,实现500万像素图像采集及景深扩展功能
2.ZeissAxioImagerM2m:配置ApoTome光学切片系统,Z轴分辨率达0.1μm
3.NikonEclipseLV150N:大型载物台支持300mm晶圆检测,配备NIS-ElementsD软件
4.LeicaDM2700M:集成LED冷光源系统,支持偏振光与微分干涉对比观察
5.KeyenceVHX-7000:4K超景深显微镜,具备3D表面轮廓重建功能
6.HiroxRH-2000:远程控制显微系统,支持60°倾斜观察及4K视频录制
7.MitutoyoMF-U5100:测量显微镜配备十字激光定位器,重复精度±0.3μm
8.OlympusSTM7:倒置显微镜配置多孔板载物台,适配生物培养皿观测
9.ZeissSmartzoom5:电动变倍系统(20-5760×),内置EBSD分析模块
10.NikonMM-400:三目显微系统集成光纤光谱仪(350-1100nm)
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与光学显微镜法检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。