场致发射电流密度:测量电压范围0.1-30kV下单位面积发射电流(μA/cm)
功函数测定:采用Kelvin探针法测量表面功函数(eV),精度0.02eV
热发射特性:测试800-2000K温度区间的饱和电流密度(A/cm)
场增强因子计算:通过Fowler-Nordheim曲线拟合获取β值(10-10⁶量级)
发射均匀性分析:使用微通道板探测器进行空间分辨率≤5μm的二维分布测量
阴极材料:氧化钪钨阴极、六硼化镧单晶等热电子发射体
场发射阵列:硅基/碳基纳米锥阵列(尖端曲率半径<50nm)
半导体器件:GaNHEMT器件栅极电子溢出特性分析
真空电子元件:行波管慢波结构二次电子产额测定
新型纳米材料:石墨烯边缘/碳纳米管场致发射性能评估
ASTMF1711-08(2020):场致发射显示器测试标准真空室法
ISO21283:2018:扫描探针显微镜功函数测量技术规范
GB/T31307-2014:热阴极发射特性测试规程(直流法)
IEC60384-18:2016:电子元件表面二次电子发射系数测定
GB/T35032-2018:场发射电流噪声功率谱测试方法
JEOLJSM-7900F场发射扫描电镜:配备In-lensSE探测器实现5nm分辨率形貌分析
KeysightB1500A半导体分析仪:支持10fA-1A宽范围电流测量能力
RHKUHVVT-STM系统:超高真空(<510⁻⁸Pa)下原子级功函数测量
KimballPhysicsF-100场发射测试系统:配备双微通道板电子成像装置
Agilent4155C参数分析仪:支持脉冲模式下的瞬态发射特性测试
OmicronMultiprobeXPS/UPS联用系统:同步获得表面化学态与逸出功数据
AdvantestR6243高压电源模块:输出精度0.05%的30kV直流高压
PhotonisP43荧光屏探测器:用于二维电子空间分布成像分析
LakeShoreCRX-VF低温恒温器:实现4.2-500K变温环境控制
HidenEQP300质谱分析仪:实时监测残余气体对电子发射的影响
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与电子发射检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。