1.晶格常数测量:分辨率0.001nm,测量范围0.2-1.0nm
2.位错密度分析:检测下限1E6/cm,误差率≤5%
3.相界面应变场分布:应变分辨率0.01%,扫描步长10nm
4.三维重构精度验证:Z轴分辨率0.5nm,重建误差≤0.3%
5.缺陷空间分布统计:缺陷识别尺寸≥2nm,定位精度1nm
6.热膨胀系数匹配度:温度范围-196℃~1200℃,温控精度0.5℃
1.金属基复合材料:钛铝基合金、镍基高温合金等
2.半导体单晶材料:硅(Si)、砷化镓(GaAs)、碳化硅(SiC)衬底
3.陶瓷复合材料:氧化锆增韧陶瓷、碳化硼-碳化硅层状结构
4.高分子晶体材料:聚乙烯(PE)单晶薄膜、聚丙烯(PP)球晶结构
5.纳米结构材料:量子点阵列、金属有机框架(MOF)晶体
ASTME112-13晶粒尺寸测定规范
ISO14577-1:2015纳米压痕法测定硬度和弹性模量
GB/T13305-2008不锈钢中α相面积含量测定方法
ASTMF1940-07(2019)半导体晶片翘曲度测试标准
ISO22262-2:2014材料表面残余应力X射线衍射分析法
GB/T3488.2-2018硬质合金微观结构的金相测定
1.ZeissSigma500VP-FESEM:场发射扫描电镜,配备EBSD探头,空间分辨率1.0nm
2.BrukerD8DiscoverXRD:高分辨率X射线衍射仪,角度重复性0.0001
3.ThermoFisherTalosF200XS/TEM:透射电镜,点分辨率0.16nm
4.KeyenceVK-X3000:激光共聚焦显微镜,Z轴测量精度1nm
5.ShimadzuAIM-9000:红外热像仪,热灵敏度0.03℃@30℃
6.OxfordInstrumentsSymmetryEBSD:电子背散射衍射系统,采集速度3000点/秒
7.MalvernPanalyticalEmpyreanXRD:多功能衍射仪,配备高温附件(1600℃)
8.HitachiHF5000HR-TEM:球差校正透射电镜,信息极限0.07nm
9.Agilent5500AFM:原子力显微镜,Z轴噪声水平<0.05nm
10.LeicaDM8000M:正置材料显微镜,配备LASX晶粒度分析模块
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与空间点阵干涉检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。