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空间点阵干涉检测

  • 原创官网
  • 2025-03-31 12:01:00
  • 关键字:空间点阵干涉项目报价,空间点阵干涉测试范围,空间点阵干涉测试周期
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空间点阵干涉检测概述:空间点阵干涉检测是一种基于光学与电子显微技术的高精度分析方法,主要用于材料晶体结构、缺陷分布及应力状态的定量表征。核心检测要素包括晶格常数偏差测量、位错密度分析、相变区域定位、界面应变场解析以及三维重构精度验证。该技术适用于金属合金、半导体器件及复合材料等领域的微观结构质量控制。


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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

☌ 询价

检测项目

1.晶格常数测量:分辨率0.001nm,测量范围0.2-1.0nm

2.位错密度分析:检测下限1E6/cm,误差率≤5%

3.相界面应变场分布:应变分辨率0.01%,扫描步长10nm

4.三维重构精度验证:Z轴分辨率0.5nm,重建误差≤0.3%

5.缺陷空间分布统计:缺陷识别尺寸≥2nm,定位精度1nm

6.热膨胀系数匹配度:温度范围-196℃~1200℃,温控精度0.5℃

检测范围

1.金属基复合材料:钛铝基合金、镍基高温合金等

2.半导体单晶材料:硅(Si)、砷化镓(GaAs)、碳化硅(SiC)衬底

3.陶瓷复合材料:氧化锆增韧陶瓷、碳化硼-碳化硅层状结构

4.高分子晶体材料:聚乙烯(PE)单晶薄膜、聚丙烯(PP)球晶结构

5.纳米结构材料:量子点阵列、金属有机框架(MOF)晶体

检测方法

ASTME112-13晶粒尺寸测定规范

ISO14577-1:2015纳米压痕法测定硬度和弹性模量

GB/T13305-2008不锈钢中α相面积含量测定方法

ASTMF1940-07(2019)半导体晶片翘曲度测试标准

ISO22262-2:2014材料表面残余应力X射线衍射分析法

GB/T3488.2-2018硬质合金微观结构的金相测定

检测设备

1.ZeissSigma500VP-FESEM:场发射扫描电镜,配备EBSD探头,空间分辨率1.0nm

2.BrukerD8DiscoverXRD:高分辨率X射线衍射仪,角度重复性0.0001

3.ThermoFisherTalosF200XS/TEM:透射电镜,点分辨率0.16nm

4.KeyenceVK-X3000:激光共聚焦显微镜,Z轴测量精度1nm

5.ShimadzuAIM-9000:红外热像仪,热灵敏度0.03℃@30℃

6.OxfordInstrumentsSymmetryEBSD:电子背散射衍射系统,采集速度3000点/秒

7.MalvernPanalyticalEmpyreanXRD:多功能衍射仪,配备高温附件(1600℃)

8.HitachiHF5000HR-TEM:球差校正透射电镜,信息极限0.07nm

9.Agilent5500AFM:原子力显微镜,Z轴噪声水平<0.05nm

10.LeicaDM8000M:正置材料显微镜,配备LASX晶粒度分析模块

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

  以上是与空间点阵干涉检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。

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