1.晶界密度测定:测量单位面积内晶界总长度(μm/μm),精度0.05μm⁻
2.平均晶粒尺寸分析:基于ASTME112标准计算等效圆直径(ECD),分辨率≥0.1μm
3.二次相分布表征:统计析出相体积分数(0.1%-20%),定位精度50nm
4.位错密度评估:通过EBSD技术测定位错密度(10⁶-10m⁻),步长0.02-5μm
5.界面能计算:基于取向差角(2-62)计算晶界能量(J/m),误差≤5%
1.金属合金:包括铝合金(AA2000/7000系列)、钛合金(Ti-6Al-4V)等高温变形材料
2.陶瓷材料:氧化锆(3Y-TZP)、碳化硅(SiC)等结构陶瓷
3.半导体晶体:单晶硅(<100>/<111>取向)、GaN外延层
4.粉末冶金制品:硬质合金(WC-Co)、金属注射成型件
5.复合材料:碳纤维增强金属基(CF/Al)、陶瓷颗粒增强铝基复合材料
1.ASTME112-13:金属材料平均晶粒度测定标准方法
2.ISO643:2019:钢的奥氏体晶粒度显微测定法
3.GB/T6394-2017:金属平均晶粒度测定方法
4.ASTME1382-97(2015):电子背散射衍射(EBSD)分析标准
5.ISO16700:2016:扫描电镜性能表征方法
6.GB/T30067-2013:金属材料电子背散射衍射分析方法
1.场发射扫描电镜:JEOLJSM-IT800HR,配备Schottky场发射枪,分辨率0.8nm@15kV
2.电子背散射衍射系统:OxfordInstrumentsSymmetryS2,采集速度≥3000点/秒
3.X射线能谱仪:OxfordInstrumentsX-MaxN80,能量分辨率≤127eV
4.聚焦离子束系统:ThermoScientificHeliosG4UX,束流范围1pA-65nA
5.原子力显微镜:BrukerDimensionIcon,扫描范围90μm90μm10μm
6.X射线衍射仪:RigakuSmartLabSE,Cu靶Kα辐射(λ=1.5406)
7.金相制样系统:StruersTegramin-30自动磨抛机,压力范围5-60N
8.离子减薄仪:GatanPIPSIIModel695,加速电压0.1-8kV
9.高温共聚焦显微镜:LasertecVL2000DX-SVF17SP,最高温度1700℃
10.三维X射线显微镜:ZEISSXradia620Versa,空间分辨率0.7μm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与粒间成核位置检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。