直接键合结构检测概述:检测项目1.界面剪切强度测试:测量键合层抗剪切能力,参数范围10-200MPa。2.表面粗糙度分析:采用原子力显微镜(AFM)扫描表面形貌,分辨率≤0.1nm。3.热膨胀系数匹配性:通过热机械分析仪(TMA)测定-50℃至300℃范围内的CTE差异。4.界面气密性检测:氦质谱检漏法灵敏度≤110⁻⁹Pam/s。5.高温高湿老化测试:85℃/85%RH环境下持续1000小时后的结合力衰减率。检测范围1.半导体晶圆键合结构:硅-硅、硅-玻璃键合界面。2.金属复合材料:铜-铝扩散键合层。3.陶瓷基板封装体:氮化
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。
1.界面剪切强度测试:测量键合层抗剪切能力,参数范围10-200MPa。
2.表面粗糙度分析:采用原子力显微镜(AFM)扫描表面形貌,分辨率≤0.1nm。
3.热膨胀系数匹配性:通过热机械分析仪(TMA)测定-50℃至300℃范围内的CTE差异。
4.界面气密性检测:氦质谱检漏法灵敏度≤110⁻⁹Pam/s。
5.高温高湿老化测试:85℃/85%RH环境下持续1000小时后的结合力衰减率。
1.半导体晶圆键合结构:硅-硅、硅-玻璃键合界面。
2.金属复合材料:铜-铝扩散键合层。
3.陶瓷基板封装体:氮化铝-氧化铝共烧结构。
4.MEMS器件真空封装:硅-玻璃阳极键合密封性。
5.聚合物基光学元件:PMMA-PC超声波键合界面。
1.ASTMF1044-05(2016):微电子器件键合强度剪切试验标准。
2.ISO13124:2011:陶瓷材料界面断裂韧性测试规范。
3.GB/T16525-2017:半导体材料键合完整性X射线检测方法。
4.JISR1646:2002:高温环境下键合结构热循环试验规程。
5.GB/T6398-2017:金属材料疲劳裂纹扩展速率测试标准。
1.HitachiSU5000场发射扫描电镜:实现5nm分辨率界面形貌观测。
2.Instron5982万能材料试验机:最大载荷100kN的剪切/拉伸测试。
3.BrukerD8DiscoverX射线衍射仪:晶格畸变与残余应力分析。
4.NetzschDMA242E动态热机械分析仪:-150℃~600℃模量变化监测。
5.Agilent7890B气相色谱仪:键合界面有机污染物ppm级检测。
6.OlympusLEXTOLS5000激光共聚焦显微镜:三维表面粗糙度重建。
7.PfeifferASM340氦质谱检漏仪:真空密封性定量分析。
8.KeysightB1500A半导体参数分析仪:微区电学性能表征。
9.ThermoFisherNicoletiS50傅里叶红外光谱仪:化学键合类型鉴定。
10.ESEC3008芯片剪切力测试仪:0.1N精度微力值测量。
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与直接键合结构检测相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。