1.电阻率测量:量程110-8~1103Ωcm(四探针法)
2.载流子浓度分析:精度5%(霍尔效应测试)
3.迁移率测定:温度范围77K~400K(变温测试系统)
4.缺陷密度检测:分辨率≤0.1μm(扫描电子显微镜)
5.热导率测试:测量误差<3%(激光闪射法)
6.表面粗糙度:Ra值0.1nm~10μm(原子力显微镜)
7.介电常数测定:频率范围1kHz~1MHz(LCR测试仪)
1.金属导体:铜(C11000)、铝(1060)、银(Ag99.99)等纯金属及合金
2.半导体晶圆:硅(111)/(100)、砷化镓(GaAs)、碳化硅(4H-SiC)
3.薄膜材料:ITO透明导电膜(厚度50-300nm)、多晶硅薄膜
4.电子元器件:MOSFET、IGBT、LED芯片封装结构
5.纳米材料:石墨烯薄膜(层数1-10层)、碳纳米管阵列
6.光伏材料:单晶/多晶硅太阳能电池片、钙钛矿薄膜
1.ASTMF76:半导体材料载流子浓度标准测试规程
2.ISO14707:辉光放电光谱法分析表面成分
3.GB/T1551-2009:硅单晶电阻率测定方法
4.IEC60749:半导体器件环境试验方法
5.JISH0605:硅晶体中氧含量测定规程
6.GB/T35011-2018:碳化硅单晶片表面粗糙度测试
7.ASTME1461-13:激光闪射法热扩散系数测定
1.Keithley2450源表:四探针电阻率测试(最大电流1A)
2.LakeShore8400系列霍尔效应测试系统(磁场强度2T)
3.NetzschLFA467激光导热仪(温度范围-120~500℃)
4.BrukerDimensionIcon原子力显微镜(分辨率0.1nm)
5.AgilentB1500A半导体参数分析仪(电压范围100V)
6.ThermoScientificPrismaEScan电镜(放大倍数50万倍)
7.HoribaLabRAMHREvolution拉曼光谱仪(光谱分辨率0.35cm-1)
8.KeysightE4990A阻抗分析仪(频率范围20Hz~120MHz)
9.VeecoDektakXT台阶仪(垂直分辨率0.1)
10.OxfordInstrumentsPlasmaPro100ICP刻蚀系统(工艺均匀性3%)
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
以上是与导体检测,半导体检测报告相关的简单介绍,具体试验/检测周期、检测方法和仪器选择会根据具体的检测要求和标准而有所不同。北检研究院将根据客户需求合理的制定试验方案。